一种高度可控制的CVD金刚石生长基片台的制作方法
一种高度可控制的cvd金刚石生长基片台
技术领域
1.本实用新型涉及cvd金刚石技术领域，具体涉及一种高度可控制的cvd金刚石生长基片台。
背景技术：
2.cvd金刚石是一种含碳气体和氧气的混合物在高温和低于标准大气压的压力下被激发分解，形成活性金刚石碳原子，并在基体上沉积交互生长成聚晶金刚石。cvd金刚石元器件是半导体元器件的替代品，在制作cvd金刚石元器件时，为了降低cvd金刚石元器件的尺寸，需要将cvd金刚石原材料加工成超薄的cvd金刚石单晶片。在cvd金刚石基片台上生长金刚石时，高度对cvd金刚石的生长有着较大的影响，在调整cvd金刚石的生长高度时，需将整个生长基片台或装置整体抬高，效率较低且操作繁琐。
技术实现要素：
3.为了解决现有的cvd金刚石生长基片台无法对高度进行调节的问题，本实用新型提供了一种高度可控制的cvd金刚石生长基片台。
4.为了实现上述目的，本实用新型提供了一种高度可控制的cvd金刚石生长基片台，包括底座及生长台，所述底座设置有容纳所述生长台的容纳槽，所述生长台的底面设置有伸缩杆，所述伸缩杆滑动套设有套管，所述套管的一端与所述容纳槽连接，所述容纳槽的底面滑动设置有升降机构，所述升降机构包括圆环滑块、多个连杆及多个支撑杆，所述圆环滑块转动设置在所述容纳槽内，多个所述连杆的一端与所述圆环滑块活动连接，多个所述连杆的另一端与所述生长台的底面铰接，多个所述支撑杆的一端与所述容纳槽的侧壁连接，且另一端与所述套管连接，所述连杆设置在所述支撑杆与所述生长台之间。
5.本实用新型的原理为：当生长台的高度不合预设的金刚石生长位置时，转动容纳槽内的圆环滑块，圆环滑块带动连杆运动，连杆的一端与圆环滑块活动连接，连接杆的中部与支撑杆抵接，连杆的另一端与生长台铰接，连杆与支撑杆之间具有角度，圆环滑块转动时，连杆与支撑杆发生相对滑动，连杆与圆环滑块的连接点到支撑杆的距离变小，连杆与支撑杆的角度变大，使得连杆的另一端缓缓升高，与连杆铰接的生长台随之升高，同理，圆环滑块反方向转动时，连杆与圆环滑块的连接点到支撑杆的距离变大，连杆与支撑杆的角度变小，使得连杆的另一端缓缓降低，与连杆铰接的生长台随之降低，生长台的底面设置有伸缩杆，伸缩杆与套管滑动连接，以对生长台升高或降低时进行限位，以使生长台的升降始终为竖直方向。
6.在一些实施方式中，所述连杆为异形连杆，所述容纳槽的底面设置有圆环滑槽，所述圆环滑槽与所述圆环滑块滑动连接，所述底座的侧面设置有弧形滑槽，所述弧形滑槽与所述圆环滑槽连通，所述圆环滑块的侧壁设置有调节杆，所述调节杆的一端穿设于所述弧形滑槽延伸至底座外并连接有手柄，通过调节杆使得圆环滑块滑动以使异形连杆移动，且在支撑杆的作用下缓慢向上升高，以抬升生长台。
7.在一些实施方式中，所述圆环滑块设置有与所述连杆对应的安装槽，所述连杆的一端设置有球形触块，所述球形触块设置有所述安装槽内，球形触块直接放置在安装槽内，以方便生长台的安装及拆卸。
8.在一些实施方式中，所述底座的侧面还设置有螺纹孔，所述螺纹孔与所述圆环滑槽连通，所述螺纹孔螺纹连接有锁紧螺杆，以对圆环滑块进行锁紧，防止生长台位置调节完毕后，在重力作用下，生长台向下滑动。
9.在一些实施方式中，所述圆环滑块的外侧设置有防滑垫层，所述锁紧螺杆的丝头设置有与所述防滑垫层配合的防滑套，以增强对圆环滑块的固定效果。
10.在一些实施方式中，所述底座的侧面在所述弧形滑槽的上端设置有刻度尺，刻度尺与生长台升高的距离匹配，以方便操作。
11.在一些实施方式中，所述生长台的底面设置凹槽，所述凹槽的底面设置有螺纹管，所述伸缩杆与所述螺纹管螺纹连接，多个所述连杆的另一端铰接在所述凹槽的底面，生长台可独立，以达到最低的极限高度。
12.在一些实施方式中，所述凹槽的底面设置有铰接耳，所述铰接耳上设置有铰接孔，所述异性连杆上设置有转动杆，所述转动杆上设置有螺纹，所述转动杆的另一端穿设于所述铰接孔并螺纹连接有螺母，异形连杆与生长台可拆卸，以方便安装。
13.在一些实施方式中，所述底座的底面设置有第二防滑垫层，防止在对生长台高度进行调整时，基片台滑动，影响调节效率。
14.本实用新型提供一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果或优点：
15.本技术实施方式提供的一种高度可控制的cvd金刚石生长基片台，滑动提升机构，连杆随之进行滑动，在支撑杆的作用下，连杆的另一端缓缓升高或降低，方便了对基片台的高度进行控制，且对基片台高度的微调更精确；
16.沿弧形滑槽滑动手柄，以控制圆环滑块的滑动，圆环滑块绕自身圆心滑动，此时，异形连杆的一端随之滑动，同时在支撑杆的作用下，异形连杆的另一端随之升高或降低；手柄的上方设置有刻度尺，刻度尺分度值与生长台升高的距离匹配，方便了对基片台高度的调节；底座的侧面还设置有锁紧螺杆，以对高度调整完毕后的生长台进行固定；
17.生长台与底座之间为可拆卸的连接方式，方便了基片台本体的安装或拆卸，且拆卸生长台，以得到最低的极值高度。
附图说明
18.为了更清楚地说明本技术实施方式中的技术方案，下面将对实施方式描述中所需要使用的附图做简单的介绍，显而易见的，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施方式，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
19.图1为本实用新型基片台的结构示意图；
20.图2为本实用新型升降机构的结构示意图；
21.图3为本实用新型底座的结构示意图；
22.图4为本实用新型生长台的剖视图。
23.图中，1-底座，2-生长台，3-伸缩杆，4-套管，5-升降机构，6-连杆，7-支撑杆，8-圆
环滑块，9-圆环滑槽，10-弧形滑槽，11-调节杆，12-安装槽，13-球形触块，14-螺纹孔，15-刻度尺，16-凹槽，17-螺纹管，18-铰接耳。
具体实施方式
24.下面结合附图进一步详细描述本实用新型的技术方案，但本实用新型的保护范围不局限于以下所述。
25.为了使本技术领域的人员更好地理解本技术方案，下面将结合本技术实施方式中的附图，对本技术实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施方式仅仅是本技术一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本技术中的实施方式，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本技术保护的范围。
26.在本技术中，除非另有明确的规定或限定，术语“安装”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解。例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接连接，也可以通过中间媒介间接相连，也可以是两个元件内部的连通，也可以是仅为表面接触，或者通过中间媒介的表面接触连接。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
27.此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为特指或特殊结构。术语“一些实施方式”、“其他实施方式”等的描述意指结合该实施方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本技术的至少一个实施方式或示例中。在本技术中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施方式或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施方式或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本技术中描述的不同实施方式或示例以及不同实施方式或示例的特征进行结合和组合。
28.本实施例提供了一种高度可控制的cvd金刚石生长基片台，包括底座1及生长台2，所述底座1设置有容纳所述生长台2的容纳槽，所述生长台2的底面设置有伸缩杆3，所述伸缩杆3滑动套设有套管4，所述套管4的一端与所述容纳槽连接，以使生长台2通过伸缩杆3与底座1滑动连接，所述容纳槽的底面滑动设置有升降机构5，所述升降机构5包括圆环滑块8及多个连杆6及多个支撑杆7，所述圆环滑块8转动设置在所述容纳槽内，多个所述连杆6的一端与所述圆环滑块8活动连接，多个所述连杆6的另一端与所述生长台2的底面铰接，多个所述支撑杆7的一端与所述容纳槽的侧壁连接，且另一端与所述套管4连接，所述连杆6设置在所述支撑杆7与所述生长台2之间，滑动提升机构，连杆6的一端随之进行滑动，且在支撑杆7的作用下，连杆6的另一端随之向上或向下运动。当生长台2的高度不合预设的金刚石生长位置时，活动容纳槽内的提升机构，此时圆环滑块8滑动并带动连杆6运动，连杆6的一端与圆环滑块8活动连接，连杆6的中部与支撑杆7抵接，连杆6的另一端与生长台2铰接，连杆6与支撑杆7之间具有角度，圆环滑块8转动时，连杆6与支撑杆7发生相对滑动，连杆6与圆环滑块8的连接点到支撑杆7的距离变小，连杆6与支撑杆7的角度变大，使得连杆6的另一端缓缓升高，与连杆6铰接的生长台2随之升高，同理，圆环滑块8反方向转动时，连杆6与圆环滑块8的连接点到支撑杆7的距离变大，连杆6与支撑杆7的角度变小，使得连杆6的另一端缓缓降低，与连杆6铰接的生长台2随之降低，生长台2的底面设置有伸缩杆3，伸缩杆3与套管4滑
动连接，以对生长台2升高或降低时进行限位，以使生长台2的升降始终为竖直方向。
29.进一步的，所述连杆6为异形连杆，所述容纳槽的底面设置有圆环滑槽9，所述圆环滑槽9与所述圆环滑块8滑动连接，所述底座1的侧面设置有弧形滑槽10，所述弧形滑槽10与所述圆环滑槽9连通，所述圆环滑块8的侧壁设置有调节杆11，所述调节杆11的一端穿设于所述弧形滑槽10延伸至底座1外并连接有手柄，以通过手柄控制圆环滑块8滑动，圆环滑块8滑动以使异形连杆6移动，且在支撑杆7的作用下，连杆6的一端缓慢向上升高，以抬升生长台2。
30.优选的，所述圆环滑块8设置有与所述连杆6对应的安装槽12，所述连杆6的一端设置有球形触块13，所述球形触块13设置有所述安装槽12内，球形触块13直接放置在安装槽12内，以方便生长台2的安装及拆卸。
31.明显的，所述底座1的侧面还设置有螺纹孔14，所述螺纹孔14与所述圆环滑槽9连通，所述螺纹孔14螺纹连接有锁紧螺杆，以对圆环滑块8进行锁紧，防止生长台2位置调节完毕后，在重力作用下，生长台2向下滑动。优选的，所述圆环滑块8的外侧设置有防滑垫层，所述锁紧螺杆的丝头设置有与所述防滑垫层配合的防滑套，以增强对圆环滑块8的固定效果。
32.在一些实施方式中，所述底座1的侧面在所述弧形滑槽10的上端设置有刻度尺15，刻度尺15的分度值与生长台2升高的距离匹配，以方便操作。可以理解，手柄的侧面在靠近底座1的外壁位置设置有指针，指针与刻度尺15对应，以读取生长台2升降的数值。
33.在一些实施方式中，所述生长台2的底面设置凹槽16，所述凹槽16的底面设置有螺纹管17，明显的，所述螺纹管17与所述生长台2的底面共面，所述伸缩杆3与所述螺纹管17螺纹连接，多个所述连杆6的另一端铰接在所述凹槽16的底面，生长台2可独立，以达到最低的极限高度。明显的，所述凹槽16的底面设置有铰接耳18，所述铰接耳18上设置有铰接孔，所述异性连杆6上设置有转动杆，所述转动杆上设置有螺纹，所述转动杆的另一端穿设于所述铰接孔并螺纹连接有螺母，异形连杆6与生长台2可拆卸，以方便安装。可以理解，铰接耳18的高度低于凹槽16内壁的高度，以使生长台2单独使用时，能平稳放置。
34.在一些实施方式中，所述底座1的底面设置有第二防滑垫层，防止在对生长台2高度进行调整时，基片台滑动，影响调节效率。
35.以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当理解本实用新型并非局限于本文所披露的形式，不应看作是对其他实施例的排除，而可用于各种其他组合、修改和环境，并能够在本文所述构想范围内，通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行的改动和变化不脱离本实用新型的精神和范围，则都应在本实用新型所附权利要求的保护范围内。
技术特征：
1.一种高度可控制的cvd金刚石生长基片台，其特征在于，包括底座（1）及生长台（2），所述底座（1）设置有容纳所述生长台（2）的容纳槽，所述生长台（2）的底面设置有伸缩杆（3），所述伸缩杆（3）滑动套设有套管（4），所述套管（4）的一端与所述容纳槽连接，所述容纳槽的底面滑动设置有升降机构（5），所述升降机构（5）包括圆环滑块（8）、多个连杆（6）及多个支撑杆（7），所述圆环滑块（8）转动设置在所述容纳槽内，多个所述连杆（6）的一端与所述圆环滑块（8）活动连接，多个所述连杆（6）的另一端与所述生长台（2）的底面铰接，多个所述支撑杆（7）的一端与所述容纳槽的侧壁连接，且另一端与所述套管（4）连接，所述连杆（6）设置在所述支撑杆（7）与所述生长台（2）之间。2.根据权利要求1所述的一种高度可控制的cvd金刚石生长基片台，其特征在于，所述连杆（6）为异形连杆，所述容纳槽的底面设置有圆环滑槽（9），所述圆环滑槽（9）滑动连接有所述圆环滑块（8），所述底座（1）的侧面设置有弧形滑槽（10），所述弧形滑槽（10）与所述圆环滑槽（9）连通，所述圆环滑块（8）的侧壁设置有调节杆（11），所述调节杆（11）的一端穿设于所述弧形滑槽（10）延伸至所述底座（1）外并连接有手柄。3.根据权利要求2所述的一种高度可控制的cvd金刚石生长基片台，其特征在于，所述圆环滑块（8）设置有与所述连杆（6）对应的安装槽（12），所述连杆（6）的一端设置有球形触块（13），所述球形触块（13）设置有所述安装槽（12）内。4.根据权利要求2所述的一种高度可控制的cvd金刚石生长基片台，其特征在于，所述底座（1）的侧面还设置有螺纹孔（14），所述螺纹孔（14）与所述圆环滑槽（9）连通，所述螺纹孔（14）螺纹连接有锁紧螺杆。5.根据权利要求4所述的一种高度可控制的cvd金刚石生长基片台，其特征在于，所述圆环滑块（8）的外侧设置有防滑垫层，所述锁紧螺杆的丝头设置有与所述防滑垫层配合的防滑套。6.根据权利要求2所述的一种高度可控制的cvd金刚石生长基片台，其特征在于，所述底座（1）的侧面在所述弧形滑槽（10）的上端设置有刻度尺（15）。7.根据权利要求1所述的一种高度可控制的cvd金刚石生长基片台，其特征在于，所述生长台（2）的底面设置凹槽（16），所述凹槽（16）的底面设置有螺纹管（17），所述伸缩杆（3）与所述螺纹管（17）螺纹连接，多个所述连杆（6）的另一端铰接在所述凹槽（16）的底面。8.根据权利要求7所述的一种高度可控制的cvd金刚石生长基片台，其特征在于，所述凹槽（16）的底面设置有铰接耳（18），所述铰接耳（18）上设置有铰接孔，所述连杆（6）上设置有转动杆，所述转动杆上设置有螺纹，所述转动杆的另一端穿设于所述铰接孔并螺纹连接有螺母。9.根据权利要求1所述的一种高度可控制的cvd金刚石生长基片台，其特征在于，所述底座（1）的底面设置有第二防滑垫层。
技术总结
本实用新型公开了一种高度可控制的CVD金刚石生长基片台，具体涉及CVD金刚石技术领域，包括底座及生长台，底座设置有容纳所述生长台的容纳槽，生长台的底面设置有伸缩杆，伸缩杆滑动套设有套管，套管的底面与所述容纳槽的底面连接，容纳槽的底面滑动设置有升降机构，升降机构包括圆环滑块、多个连杆及多个支撑杆，圆环滑块转动设置在容纳槽内，多个连杆的一端与圆环滑块活动连接，多个连杆的另一端与生长台的底面铰接，多个支撑杆的一端与容纳槽的侧壁连接，且另一端与所述套管连接，连杆设置在所述支撑杆与所述生长台之间，实现了对CVD金刚石基片台的升降调节，且调节精度较高。且调节精度较高。且调节精度较高。
