工艺气体引入组件的制作方法
1.本发明属于真空半导体技术领域，具体涉及一种工艺气体引入组件。
背景技术：
2.原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法(技术)。当前驱体达到沉积基体表面，它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。在前驱体脉冲之间需要用惰性气体对原子层沉积反应器进行清洗。由此可知沉积反应前驱体物质能否在被沉积材料表面化学吸附是实现原子层沉积的关键。
3.沉积反应前驱体物质被沉积材料表面化学吸附的过程一般被称为晶圆反应。晶圆反应一般通过管道连接源，然后通过载气把源沿着管道的路径送入腔体，再由腔体升温让晶圆与源在高温环境下产生反应。但是当两个或多个源同时通过管道进入腔体时，通常会因为没有引导，使得两个源或者多个源在进入腔体前就已经发生反应，且随着时间的推移，反应物会粘附在管道上，从而会造成管道堵塞，严重的还会使得晶圆反应结果受到影响。因此现有社会亟需一种既可以引导反应气体进入反应腔体内，又不会造成管道堵塞、反应污染的工艺气体引入组件。
技术实现要素：
4.本发明的目的在于提供一种工艺气体引入组件，以解决上述背景技术中提出的问题。
5.为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种工艺气体引入组件，包括有真空连接件主体，所述真空连接件主体的上端部分布有进气管道，还包括有真空连接件进源机构，所述真空连接件进源机构的上端部与真空连接件主体的下端部密封固定连接，同时所述真空连接件进源机构的内部与真空连接件主体的内部相通。
6.更进一步地讲，所述真空连接件主体的内部开设有气源传输孔道，所述气源传输孔道贯穿真空连接件主体的底部，并与所述进气管道、真空连接件进源机构相连通。
7.更进一步地讲，还包括有吹扫管道，所述吹扫管道设置在进气管道的一侧，同时所述吹扫管道的一端通过吹扫传输孔道与真空连接件进源机构的内部相通，所述吹扫传输孔道设置在真空连接件主体的内部。
8.更进一步地讲，所述进气管道包括有a源进气管道和b源进气管道，所述a源进气管道和b源进气管道分别分布在真空连接件进源机构的上端部两侧，所述a源进气管道和b源进气管道均通过气源传输孔道与真空连接件进源机构的内部相通。
9.更进一步地讲，所述气源传输孔道包括有a源传输孔道和b源传输孔道，所述a源进气管道通过a源传输孔道与真空连接件进源机构的内部相通，所述b源进气管道通过b源传输孔道与真空连接件进源机构的内部相通。
10.更进一步地讲，所述真空连接件进源机构包括有真空连接件过渡板和进源管道，
所述进源管道焊接在真空连接件过渡板的下端，且所述真空连接件过渡板和进源管道之间相通；
11.所述a源进气管道和b源进气管道均通过气源传输孔道和真空连接件过渡板与进源管道相通，所述吹扫管道通过吹扫传输孔道与真空连接件过渡板相通。
12.更进一步地讲，所述真空连接件过渡板上开设有a源通孔、b源通孔和吹扫通孔，所述a源通孔设置在b源通孔的一侧，所述吹扫通孔环形分布在a源通孔和b源通孔的外侧；
13.所述a源进气管道与a源通孔相通，所述b源进气管道与b源通孔相通，所述吹扫管道与吹扫通孔相通。
14.更进一步地讲，所述a源通孔和b源通孔的端部均设置有反应源密封环道，所述吹扫通孔的端部设置有吹扫密封环道。
15.更进一步地讲，所述反应源密封环道内设置有反应源密封圈，所述吹扫密封环道内设置有吹扫密封圈。
16.更进一步地讲，所述进源管道包括有a源管道和b源管道，所述a源管道和b源管道之间相互平行，所述a源进气管道和a源管道之间相通，所述b源进气管道和b源管道之间相通。
17.本发明的技术效果和优点：
18.(1)本发明的工艺气体引入组件设置有多个进气管道和多个气源传输孔道，且每个进气管道均对应有一个气源传输孔道，且进气管道和进气管道之间、气源传输孔道和气源传输孔道之间并无任何交叉重合之处，从而在多个源引进的过程中，避免了不同源之间的交叉污染，保障了管道的正常运行；
19.(2)本发明的工艺气体引入组件设置有真空连接件进源机构，在保障源正常在传输的过程中，可以使得不同源之间得到充分分离，不会产生任何接触，进而从根源上解决了因不同源之间的反应，可能造成管道堵塞的问题，同时在进源管道的出口处设置有切口，可以加快源的传输速率，进而提高装置整体的工作效率；
20.(3)本发明的工艺气体引入组件设置有吹扫机构，在不同源传输的过程中，可以通过吹扫气体，将不同源进行隔绝，同时也可以加快源在管道内的传输，从而有助于提高装置的整体传输速率。
附图说明
21.图1为本发明工艺气体引入组件的结构示意图；
22.图2为本发明工艺气体引入组件的结构爆炸图；
23.图3为本发明真空连接件主体(带载气进气管道)的剖视图；
24.图4为本发明真空连接件主体(带进气管道)的剖视图；
25.图5为本发明真空连接件主体的局部仰视图；
26.图6为本发明真空连接件进源机构的结构示意图；
27.图7为本发明真空连接件过渡板的俯视图；
28.图中标号对应的部件名称：
29.图中：1、真空连接件主体；2、a源进气管道；3、b源进气管道；4、吹扫管道；5、真空连接件过渡板；6、进源管道；601、a源管道；602、b源管道；7、吹扫密封圈；8、反应源密封圈；9、
吹扫传输孔道；10、a源传输孔道；11、b源传输孔道；12、a源通孔；13、b源通孔；14、吹扫通孔；15、吹扫密封环道；16、反应源密封环道。
具体实施方式
30.下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步说明。在此需要说明的是，对于这些实施方式的说明用于帮助理解本发明，但并不构成对本发明的限定。此外，下面所描述的本发明各个实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。
31.在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
32.此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
33.实施例1
34.本实施例提供了一种工艺气体引入组件，参考图1，由图可知，该工艺气体引入组件包括有真空连接件主体1和真空连接件进源机构，真空连接件主体1的下端与真空连接件进源机构的上端之间密封固定连接，同时真空连接件主体1的内部与真空连接件进源机构的内部相通。
35.在本实施例中，真空连接件主体1包括有进气管道和气源传输孔道，其中进气管道分布在真空连接件主体1的上端部，且与气源传输孔道相连通。同时该气源传输孔道开设在真空连接件主体1的内部，且该气源传输孔道的贯穿真空连接件主体1的底部，同时该气源传输孔道与真空连接件进源机构的内部相通。
36.从图1可知，进气管道包括有a源进气管道2和b源进气管道3，其中a源进气管道2和b源进气管道3相对分布在真空连接件主体1上端部的两侧，且二者的接口方向相反。与此同时，真空连接件主体1的上端部还分布有吹扫管道4，其中吹扫管道4设置在a源进气管道2和b源进气管道3之间，且吹扫管道4的接口方向与b源进气管道3的接口方向相同。
37.具体地讲，气源传输孔道包括有a源传输孔道10和b源传输孔道11，该a源传输孔道10和b源传输孔道11均设置在真空连接件主体1的内部，同时在真空连接件主体1的内部还设置有吹扫传输孔道9，其中吹扫传输孔道9、a源传输孔道10和b源传输孔道11均贯穿真空连接件主体1的底部。在本实施例中，a源进气管道2与a源传输孔道10相连通，b源进气管道3与b源传输孔道11相连通，吹扫管道4与吹扫传输孔道9相连通。
38.参考图3、图4和图5，由图可知，吹扫传输孔道9、a源传输孔道10和b源传输孔道11彼此相互平行，且其三者之间无交叉。值得注意的是，吹扫传输孔道9设置有三个，其中有两个吹扫传输孔道9彼此之间相互平行，且相互平行的两个吹扫传输孔道9均与第三个吹扫传输孔道9相连通，同时相互平行的两个吹扫传输孔道9的下端部均贯穿真空连接件主体1的底部，且位于第三个吹扫传输孔道9的下端，第三个吹扫传输孔道9位于相互平行的两个吹
扫传输孔道9的上端，且与相互平行的两个吹扫传输孔道9相连通。
39.值得注意的是，相互平行的两个吹扫传输孔道9与a源传输孔道10、b源传输孔道11均相互平行，第三个吹扫传输孔道9所在的平面与a源传输孔道10所在的平面或b源传输孔道11所在的平面之间相垂直。
40.也就是说，在本工艺气体引入组件进行运作的过程中，不同源将通过a源进气管道2和b源进气管道3，分别进入a源传输孔道10和b源传输孔道11中，之后再进入真空连接件进源机构中，由于进气管道和气源传输孔道之间为一一对应连接关系，故在源传输的过程中，进气管道和进气管道之间、气源传输孔道和气源传输孔道之间并无任何交叉重合之处，从而在多个源引进的过程中，避免了不同源之间的交叉污染，保障了管道的正常运行。
41.实施例2
42.实施例2设计的是一种工艺气体引入组件，其基本结构同实施例1，其不同之处在于，参考图2，由图可知，真空连接件进源机构包括有真空连接件过渡板5和进源管道6，其中真空连接件过渡板5的上端与真空连接件主体1的下端之间密封固定连接，即真空连接件过渡板5的上端与真空连接件主体1的下端之间通过螺栓进行固定连接，真空连接件过渡板5的上端与真空连接件主体1的下端之间通过密封组件进行密封连接。同时进源管道6焊接在真空连接件过渡板5的下端，且真空连接件过渡板5和进源管道6之间相连通。值得注意的是，a源进气管道2、a源传输孔道10和进源管道6相连通，b源进气管道3、b源传输孔道11也和进源管道6相连通，吹扫管道4、吹扫传输孔道9和真空连接件过渡板5相通。
43.参考图6，由图可知，真空连接件过渡板5上开设有a源通孔12、b源通孔13和吹扫通孔14，且a源通孔12、b源通孔13和吹扫通孔14均贯穿真空连接件过渡板5。其中a源通孔12设置在b源通孔13的一侧，且a源通孔12和b源通孔13均设置在吹扫通孔14的内部，该吹扫通孔14环形分布在a源通孔12和b源通孔13的外侧。
44.具体地讲，a源进气管道2与a源通孔12相通，b源进气管道3与b源通孔13相通，吹扫管道4与吹扫通孔14相通。也就是说，在源进行传输的过程中，a源进气管道2通过a源传输孔道10将源传输至a源通孔12处，再由a源通孔12传输至进源管道6处，b源进气管道3通过b源传输孔道11将源传输至b源通孔13处，再由b源通孔13传输至进源管道6处。
45.在本实施例中，不同源将通过a源进气管道2和b源进气管道3，分别进入a源传输孔道10和b源传输孔道11中，再由a源传输孔道10和b源传输孔道11传输至a源通孔12和b源通孔13处，由a源通孔12和b源通孔13将源传输至进源管道6处，最后由进源管道6将源传输至反应腔内。值得注意的是，在源进行传输的过程中，吹扫气体将通过吹扫管道4进入吹扫传输孔道9中，再由吹扫传输孔道9传输至吹扫通孔14处。由于吹扫通孔14环形分布在a源通孔12和b源通孔13的外侧，故在吹扫气体传输的过程中，吹扫气体可以带动源进行传输。即在不同源传输的过程中，可以通过吹扫气体，将不同源进行隔绝，同时也可以加快源在管道内的传输，从而有助于提高装置的整体传输速率。
46.实施例3
47.实施例3设计的是一种工艺气体引入组件，其基本结构同实施例2，其不同之处在于，参考图2、图6和图7，由图可知，a源通孔12和b源通孔13的端部均开设有反应源密封环道16，吹扫通孔14的端部设置有吹扫密封环道15。在进行具体安装的过程中，a源通孔12和b源通孔13端部处的反应源密封环道16内均放置有反应源密封圈8，吹扫通孔14端部处的吹扫
密封环道15内放置有载气密封圈7。从而在放置了载气密封圈7和反应源密封圈8后，在将真空连接件主体1和真空连接件过渡板5通过螺栓进行连接，进而通过a源进气管道2进入的气源、通过b源进气管道3进入的气源和通过吹扫管道4进入的吹扫气体，其三者之间在传输的过程中，不会产生有任何的交叉污染，且还可以保证其传输的畅通性，不仅提高了气体引入速率，也保证了气体传输的安全性。
48.实施例4
49.实施例4设计的是一种工艺气体引入组件，其基本结构同实施例2，其不同之处在于，参考图6，由图可知，进源管道6包括有a源管道601和b源管道602，a源管道601和b源管道602之间相互平行。在本实施例中，a源管道601通过a源传输孔道10和a源通孔12与a源进气管道2相连通。b源管道602通过b源传输孔道11和b源通孔13与b源进气管道3相连通。值得注意的是，吹扫通孔14通过吹扫传输孔道9与吹扫管道相连通。
50.具体地讲，在保障源正常在传输的过程中，由于设置有a源管道601和b源管道602，从而可以使得不同源之间得到充分分离，不会产生任何接触，进而从根源上解决了因不同源之间的反应，可能造成管道堵塞的问题，同时在进源管道的出口处设置有切口，可以加快源的传输速率，进而提高装置整体的工作效率。
51.尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。
技术特征：
1.一种工艺气体引入组件，包括有真空连接件主体，所述真空连接件主体的上端部分布有进气管道，其特征在于，还包括有真空连接件进源机构，所述真空连接件进源机构的上端部与真空连接件主体的下端部密封固定连接，同时所述真空连接件进源机构的内部与真空连接件主体的内部相通。2.根据权利要求1所述的工艺气体引入组件，其特征在于，所述真空连接件主体的内部开设有气源传输孔道，所述气源传输孔道贯穿真空连接件主体的底部，并与所述进气管道、真空连接件进源机构相连通。3.根据权利要求1或2所述的工艺气体引入组件，其特征在于，还包括有吹扫管道，所述吹扫管道设置在进气管道的一侧，同时所述吹扫管道的一端通过吹扫传输孔道与真空连接件进源机构的内部相通，所述吹扫传输孔道设置在真空连接件主体的内部。4.根据权利要求3所述的工艺气体引入组件，其特征在于，所述进气管道包括有a源进气管道和b源进气管道，所述a源进气管道和b源进气管道分别分布在真空连接件进源机构的上端部两侧，所述a源进气管道和b源进气管道均通过气源传输孔道与真空连接件进源机构的内部相通。5.根据权利要求4所述的工艺气体引入组件，其特征在于，所述气源传输孔道包括有a源传输孔道和b源传输孔道，所述a源进气管道通过a源传输孔道与真空连接件进源机构的内部相通，所述b源进气管道通过b源传输孔道与真空连接件进源机构的内部相通。6.根据权利要求4所述的工艺气体引入组件，其特征在于，所述真空连接件进源机构包括有真空连接件过渡板和进源管道，所述进源管道焊接在真空连接件过渡板的下端，且所述真空连接件过渡板和进源管道之间相通；所述a源进气管道和b源进气管道均通过气源传输孔道和真空连接件过渡板与进源管道相通，所述吹扫管道通过吹扫传输孔道与真空连接件过渡板相通。7.根据权利要求6所述的工艺气体引入组件，其特征在于，所述真空连接件过渡板上开设有a源通孔、b源通孔和吹扫通孔，所述a源通孔设置在b源通孔的一侧，所述吹扫通孔环形分布在a源通孔和b源通孔的外侧；所述a源进气管道与a源通孔相通，所述b源进气管道与b源通孔相通，所述吹扫管道与吹扫通孔相通。8.根据权利要求7所述的工艺气体引入组件，其特征在于，所述a源通孔和b源通孔的端部均设置有反应源密封环道，所述吹扫通孔的端部设置有吹扫密封环道。9.根据权利要求8所述的工艺气体引入组件，其特征在于，所述反应源密封环道内设置有反应源密封圈，所述吹扫密封环道内设置有吹扫密封圈。10.根据权利要求6所述的工艺气体引入组件，其特征在于，所述进源管道包括有a源管道和b源管道，所述a源管道和b源管道之间相互平行，所述a源进气管道和a源管道之间相通，所述b源进气管道和b源管道之间相通。
技术总结
本发明公开了一种工艺气体引入组件，包括有真空连接件主体，所述真空连接件主体的上端部分布有进气管道，还包括有真空连接件进源机构，所述真空连接件进源机构的上端部与真空连接件主体的下端部密封固定连接，同时所述真空连接件进源机构的内部与真空连接件主体的内部相通。本发明从根源上解决了因不同源之间的反应，可能造成管道堵塞的问题，同时还可以加快源的传输速率，有助于提高装置整体的工作效率。率。
