聚酰胺基薄膜、制备聚酰胺基薄膜的方法、覆盖窗和包括该覆盖窗的显示装置与流程
1.本发明涉及一种聚酰胺基薄膜、其制备方法以及覆盖窗和包括该覆盖窗的显示装置。
背景技术：
2.聚酰胺基聚合物具有优异的耐摩擦、耐热和耐化学品性。因此，它们被用于初级电绝缘、涂料、粘合剂、挤出用树脂、耐热涂料、耐热板、耐热粘合剂、耐热纤维和耐热薄膜等应用中。
3.聚酰胺被用于各种领域。例如，聚酰胺被制成粉末形式并用作金属或磁线的涂层。根据应用情况，可与其他添加剂混合。此外，聚酰胺与含氟聚合物一起用作油漆，用于装饰和防腐蚀。它还起到将含氟聚合物粘合到金属基材上的作用。此外，聚酰胺用于涂覆厨具，利用其耐热性和耐化学品性用作气体分离膜，并且用于天然气井过滤二氧化碳、硫化氢和杂质等污染物。
4.近年来，聚酰胺以薄膜形式发展起来，此薄膜价格较低，并且具有优异的光学、机械和热学特性。这种聚酰胺基薄膜可以被应用于有机发光二极管(oled)或液晶显示器(lcd)等的显示材料，并且如果实现延迟性能，则其可以应用于抗反射膜、补偿膜和延迟膜。
5.随着这种聚酰胺基薄膜在室内和室外的使用范围扩大，对具有增强的机械/光学性能和耐久性的聚酰胺基薄膜的需求不断增加。
技术实现要素：
6.技术问题
7.本实施方案的一目的在于提供一种机械性能和光学性能优异的聚酰胺基薄膜，以及覆盖窗和包括该覆盖窗的显示装置。
8.本实施方案的另一个目的是提供一种制备机械性能和光学性能优异的聚酰胺基薄膜的方法。
9.问题的解决方案
10.一实施方案提供了一种聚酰胺基薄膜，其包括聚酰胺基聚合物并且具有0.660gpa-1
或更小的耐光指数，该耐光指数由下述等式1表示。
11.[等式1]
[0012]
耐光指数＝δyi/y
[0013]
等式1中，y为薄膜的模量，δyi为在60℃下对薄膜照射紫外线，停止紫外线照射，并在50℃喷水的耐光性测试前后的薄膜的黄指数(yi)变化率。
[0014]
另一实施方案提供了一种制备聚酰胺基薄膜的方法，其包括将二胺化合物和二羰基化合物在有机溶剂中聚合以制备包括聚酰胺基聚合物的溶液；浇铸溶液以制备凝胶片；并且对该凝胶片进行热处理。
[0015]
又一实施方案提供了一种用于显示装置的覆盖窗，其包括聚酰胺基薄膜和功能层，其中聚酰胺基薄膜具有0.660gpa-1
或更小的耐光指数，该耐光指数如上述等式1表示。
[0016]
一实施方案提供了一种显示装置，其包括显示单元；以及设置在该显示单元上的覆盖窗，其中覆盖窗包括聚酰胺基薄膜和功能层，并且聚酰胺基薄膜具有0.660gpa-1
或更小的耐光指数，该耐光指数如上述等式1表示。
[0017]
本发明的有益效果
[0018]
由于根据本实施方案的聚酰胺基薄膜具有在预定范围内的耐光指数，因此其具有优异的柔性和光学性能，并且能够有效地抑制由于紫外线引起的变。
附图说明
[0019]
图1是根据一实施方案的显示装置的示意性分解图。
[0020]
图2是根据一实施方案的显示装置的示意性透视图。
[0021]
图3是根据一实施方案的显示装置的示意性截面图。
[0022]
图4是根据一实施方案的制备聚酰胺基薄膜的方法的示意性流程图。
具体实施方式
[0023]
本发明的最佳实施方式
[0024]
在下文中，将参照附图详细描述本实施方案，以便本发明所属领域的技术人员可以容易地实施它们。然而，这些实施方案可以以许多不同的方式实施并且不限于这里描述的那些。
[0025]
在整个说明书中，在提到每个薄膜、窗、面板、层等形成在另一个薄膜、窗、面板、层等“上”或“下”的情况下时，这不仅意味着一个元件直接形成在另一个元件之上或之下，而且意味着一个元件间接形成于另一个元件之上或之下，而其他元件介于它们之间。此外，关于每个元件的上或下的术语可以参考附图。为了便于描述，附图中各个元件的尺寸可能被夸大，并不表示实际尺寸。此外，在整个说明书中，相同的附图标记指代相同的元件。
[0026]
在整个说明书中，当一个部件被称为“包括”一个元件时，应理解的是可以包括其他元件，而不是排除其他元件，除非另有明确说明。
[0027]
在本说明书中，单数表达被解释为涵盖在上下文中解释的单数或复数，除非另有说明。
[0028]
此外，除非另有说明，否则本文使用的与组分的量、反应条件等相关的所有数字和表达应理解为由术语“约”修饰。
[0029]
术语第一、第二等在本文中用于描述各种元件，并且元件不应受这些术语限制。这些术语仅用于将一个元件与另一个元件区分开来。
[0030]
此外，术语“取代”在本文中是指被选自由氘、-f、-cl、-br、-i、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼基、腙基、酯基、酮基、羧基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的炔基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的脂环族有机基、取代或未取代的杂环基、取代或未取代的芳基和取代或未取代的杂芳基组成的组中的至少一个取代基取代。以上列举的取代基可以相互连接形成环。
[0031]
聚酰胺基薄膜
[0032]
一实施方案提供了一种聚酰胺基薄膜，其不仅在模量等机械性能方面表现优异，而且在高透射率、低雾度和低黄指数方面的光学性能方面也表现优异，其中，当暴露在紫外线下时，其光学性能的退化得到有效抑制。
[0033]
根据一实施方案的聚酰胺基薄膜包括聚酰胺基聚合物。
[0034]
聚酰胺基薄膜具有0.660gpa-1
或更小的耐光指数。
[0035]
[等式1]
[0036]
耐光指数＝δyi/y
[0037]
等式1中，y为薄膜的模量，δyi为在60℃下对薄膜照射紫外线，停止紫外线照射，并在50℃喷水的耐光性测试前后的薄膜的黄指数(yi)变化率。
[0038]
在一些实施方案中，耐光性测试可以通过重复10次或更多次包括紫外线照射和喷水的测试循环来进行。例如，测试循环可以进行12次或更多。
[0039]
当照射紫外线时，紫外线可以是uva(紫外线a)并且可以包括例如10nm至400nm的电磁波。优选地，紫外线可以是具有300nm至400nm波长的近紫外线。在一些实施方案中，紫外线的强度可以为0.2至1w/m2，优选地，为0.2至0.8w/m2、0.2至0.7w/m2、0.4至1w/m2、0.4至0.8w/m2、0.4至0.7w/m2、0.6至1w/m2、0.6至0.8w/m2或0.4至0.6w/m2。
[0040]
例如，紫外线照射和喷水可以分别进行1至10小时。例如，它们可以分别进行2至8小时或3至6小时。在一些实施方案中，紫外线照射和喷水可以进行相同的时间段。
[0041]
由于根据一实施方案的聚酰胺基薄膜满足耐光指数，因此即使在经过上述苛刻的耐光性测试之后，其诸如透射率和雾度等的光学性能和诸如模量等的机械性能也可以保持优异，并且其根据cie lab颜坐标的黄指数和颜指数的变化可以被有效抑制。
[0042]
在一些实施方案中，耐光指数可以是0.630gpa-1
或更小、0.620gpa-1
或更小、0.600gpa-1
或更小、0.550gpa-1
或更小、0.540gpa-1
或更小、0.500gpa-1
或更小、0.450gpa-1
或更小或0.410gpa-1
或更小。在这种情况下，薄膜可以具有优异的模量、透光率、雾度等，并且其在耐光性测试前后的黄指数变化率和差可以得到降低。在一些实施方案中，耐光指数可为0.100gpa-1
或更大、0.150gpa-1
或更大或0.200gpa-1
或更大。
[0043]
在一些实施方案中，耐光性测试后的黄指数(yi)与测试前的黄指数之间的差值(δyi)可为4.5或更小。优选地，δyi可以为3.9或更小、3.8或更小、3.5或更小、3.0或更小或2.5或更小。
[0044]
在一些实施方案中，聚酰胺基薄膜可以具有1.55至1.64的耐光变指数，该耐光变指数由以下等式2表示。在这种情况下，可以提供一种具有优异的模量、透射率和雾度，同时可以抑制由于紫外线暴露引起的光学性能退化的聚酰胺基薄膜。
[0045]
[等式2]
[0046]
耐光变指数＝δyi/δe
[0047]
等式2中，δe为耐光性测试前后薄膜的差。差可以由cie lab颜坐标中的以下等式3定义。
[0048]
[等式3]
[0049][0050]
等式3中，l
*
、a
*
和b
*
分别为耐光测试后根据cie lab颜坐标的l、a和b值，
分别为耐光测试前根据cie lab颜坐标的l、a和b值。
[0051]
在一些实施方案中，耐光性测试前后的差(δe)可以为2.6或更小。优选地，δe可以为2.4或更小、2.3或更小、2.0或更小或1.6或更小。
[0052]
根据一实施方案的聚酰胺基薄膜可具有1.60至1.70、1.61至1.69、1.62至1.68、1.64至1.68、1.64至1.66或1.64至1.65的x方向折射率(n
x
)。
[0053]
此外，聚酰胺基薄膜可以具有1.60至1.70、1.61至1.69、1.62至1.68、1.63至1.68、1.63至1.66或1.63至1.64的y方向折射率(ny)。
[0054]
进一步地，聚酰胺基薄膜可以具有1.50至1.60、1.51至1.59、1.52至1.58、1.53至1.58、1.54至1.58或1.54至1.56的z方向折射率(nz)。
[0055]
如果聚酰胺基薄膜的x方向折射率、y方向折射率和z方向折射率在上述范围内，则当该薄膜应用于显示装置时，其不仅从正面，而且从侧面也具有优异的可视性，因此可以实现宽视角。
[0056]
根据一实施方案的聚酰胺基薄膜可以具有800nm或更小的面内延迟(ro)。具体地，酰胺基薄膜的面内延迟(ro)可以为700nm或更小、600nm或更小、550nm或更小、100nm至800nm、200nm至800nm、200nm至700nm、300nm至700nm、300nm至600nm、或300nm至540nm。
[0057]
此外，根据一实施方案的聚酰胺基薄膜可以具有5,000nm或更小的厚度方向延迟(r
th
)。具体地，聚酰胺基薄膜的厚度方向延迟(r
th
)可以为4,800nm或更小、4,700nm或更小、4,650nm或更小、1,000nm至5,000nm、1,500nm至5,000nm、2,000nm至5,000nm、2,500nm至5,000nm、3,000nm至5,000nm、3,500nm至5,000nm、4,000nm至5,000nm、3,000nm至4,800nm、3,000nm至4,700nm、4,000nm至4,700nm或4,200nm至4,650nm。
[0058]
此处，面内延迟(ro)是由薄膜上相互垂直的两个轴的折射率的各向异性(δn
xy
＝|n
x-ny|)与薄膜厚度(d)的乘积(δn
xy
×
d)定义的参数，它是光学各向同性和各向异性程度的量度。
[0059]
此外，厚度方向延迟(r
th
)是由在薄膜厚度方向和薄膜厚度(d)的横截面中观察到的两个双折射δn
xz
(＝|n
x
–
nz|)和δn
yz
(＝|ny–
nz|)的平均值的乘积定义的参数。
[0060]
如果聚酰胺基薄膜的面内延迟和厚度方向延迟在上述范围内，则当该薄膜应用于显示装置时，可以将光学和颜畸变最小化，并且同时将侧面漏光最小化。
[0061]
除了聚酰胺基聚合物之外，聚酰胺基薄膜可以包括填料。
[0062]
填料可以包括例如金属或准金属的氧化物、碳酸盐或硫酸盐。例如，填料可以包括二氧化硅、碳酸钙、硫酸钡等，但不限于此。
[0063]
填料可以以颗粒形式使用。此外，填料的表面没有经过特殊的涂层处理，且可以均匀地分散在整个薄膜中。
[0064]
由于聚酰胺基薄膜包括填料，因此薄膜可以在不使光学性能退化的情况下确保宽视角。
[0065]
填料可具有1.55至1.75的折射率。具体地，填料的折射率可以为1.60至1.75、1.60至1.70、1.60至1.68或1.62至1.65，但不限于此。
[0066]
如果填料的折射率满足上述范围，则与n
x
、ny和nz相关的双折射值可以得到适当调整，且薄膜在各个角度的亮度可以得到提高。
[0067]
另一方面，如果填料的折射率在上述范围外，则可能会出现填料在薄膜上可视明
显或者由于填料导致雾度增大的问题。
[0068]
基于聚酰胺基聚合物的固体含量的总重量，填料的含量可以为100ppm至3,000ppm。具体地，基于聚酰胺基聚合物的固体含量的总重量，填料的含量可以为100ppm至2,500ppm、100ppm至2,200ppm、200ppm至2,500ppm、200ppm至2,200ppm、250ppm至2,100ppm或300ppm至2,000ppm，但不限于此。
[0069]
如果填料的含量在上述范围外，则薄膜的雾度会急剧增大，且填料可能会在薄膜表面相互凝集，以至于可以可视的观察到异物感，或者可能会导致滑动性能出现问题或在制备过程中使可卷绕性降低。
[0070]
聚酰胺基薄膜中残留溶剂的含量可以为1,500ppm或更小。例如，残留溶剂的含量可以为1,200ppm或更小、1,000ppm或更小、800ppm或更小、或500ppm或更小，但不限于此。
[0071]
残留溶剂是指在薄膜生产过程中没有挥发而残留在最终生产的薄膜中的溶剂。
[0072]
如果聚酰胺基薄膜中的残留溶剂的含量超过上述范围，则薄膜的耐久性可能会降低，并且可能会对亮度产生影响。
[0073]
当根据一实施方案的基于50μm厚度的聚酰胺基薄膜被折叠成具有3mm的曲率半径时，断裂前的折叠次数可以是200,000或更多。
[0074]
当将薄膜折叠成曲率半径为3mm然后展开时，折叠次数计为1。
[0075]
由于聚酰胺基薄膜的折叠次数满足上述范围，因此其可以有利地应用于可折叠显示装置或柔性显示装置。
[0076]
根据一实施方案的聚酰胺基薄膜可以具有0.01μm至0.07μm的表面粗糙度。具体地，表面粗糙度可以为0.01μm至0.07μm或0.01μm至0.06μm，但不限于此。
[0077]
由于聚酰胺基薄膜的表面粗糙度满足上述范围，因此即使当与表面光源的法线方向的角度增加时，也可有利于实现高亮度。
[0078]
聚酰胺基薄膜包括聚酰胺基聚合物。聚酰胺基聚合物可以包括酰胺重复单元。在一些实施方案中，聚酰胺基聚合物可选地包括酰亚胺重复单元。
[0079]
聚酰胺基聚合物可以通过同时或依次地使包括二胺化合物和二羰基化合物的反应物反应来制备。具体地，可以通过聚合二胺化合物和二羰基化合物来制备聚酰胺基聚合物。
[0080]
或者，聚酰胺基聚合物通过聚合二胺化合物、二酐化合物和二羰基化合物来制备。在此，聚酰胺基聚合物可以包括来源于二胺化合物和二酐化合物的聚合的酰亚胺重复单元和来源于二胺化合物和二羰基化合物的聚合的酰胺重复单元。
[0081]
二胺化合物是与二酐化合物形成酰亚胺键，并与二羰基化合物形成酰胺键，从而形成共聚物的化合物。
[0082]
二胺化合物没有特别限定，例如它可以是含有芳香族结构的芳香族二胺化合物。例如，二胺化合物可以是由下式1表示的化合物。
[0083]
[式1]
[0084]
h2n-(e)
e-nh2[0085]
在式1中，e可以选自取代或未取代的二价c
6-c
30
脂肪族环基团、取代或未取代的二价c
4-c
30
脂肪族杂环基团、取代或未取代的二价c
6-c
30
芳环基团、取代或未取代的二价c
4-c
30
杂芳环基团、取代或未取代的c
1-c
30
亚烷基、取代或未取代的c
2-c
30
亚烯基、取代或未取代的c2-c
30
亚炔基、-o-、-s-、-c(＝o)-、-ch(oh)-、-s(＝o)
2-、-si(ch3)
2-、-c(ch3)
2-和-c(cf3)
2-。
[0086]
e选自1至5的整数。当e为2或更大时，es可以彼此相同或不同。式1中的(e)e可以选自下式1-1a至1-14a表示的基团，但不限于此。
[0087][0088]
具体地，式1中的(e)e可以选自下式1-1b至1-13b表示的基团，但不限于此。
[0089][0090]
更具体地，式1中的(e)e可以是由上式1-6b表示的基团或由上式1-9b表示的基团。
[0091]
在一实施方案中，二胺化合物可以包括具有含氟取代基的化合物或具有醚基(-o-)的化合物。
[0092]
二胺化合物可以由具有含氟取代基的化合物构成。在这种情况下，含氟取代基可以是氟化烃基，且具体地可以是三氟甲基。但不限于此。
[0093]
在一些实施方案中，二胺化合物可以包括一种二胺化合物。即，二胺化合物可以由单一成分构成。
[0094]
例如，二胺化合物可以包括由下式表示的2,2'-双(三氟甲基)-4,4'-二氨基联苯(tfdb)，但不限于此。
[0095][0096]
二羰基化合物没有特别限制，但它可以是例如由下式3表示的化合物。
[0097]
[式3]
[0098][0099]
在式3中，j可以选自取代或未取代的二价c
6-c
30
脂肪族环状基团、取代或未取代的二价c
4-c
30
脂肪族杂环基团、取代或未取代的二价c
6-c
30
芳环基团、取代或未取代的二价c
4-c
30
杂芳环基团、取代或未取代的c
1-c
30
亚烷基、取代或未取代的c
2-c
30
亚烯基、取代或未取代的c
2-c
30
亚炔基、-o-、-s-、-c(＝o)-、-ch(oh)-、-s(＝o)
2-、-si(ch3)
2-、-c(ch3)
2-和-c(cf3)
2-。
[0100]
j选自1至5的整数。当j为2或更大时，js可以彼此相同或不同。
[0101]
x是卤原子。具体地，x可以是f、cl、br、i等。更具体地，x可以是cl，但不限于此。
[0102]
上式3中的(j)j可以选自下式3-1a至3-14a表示的基团，但不限于此。
[0103]
[0104]
具体地，上式3中的(j)j可以选自下式3-1b至3-8b表示的基团，但不限于此。
[0105][0106]
更具体地，式3中的(j)j可以是由上式3-1b表示的基团、由上式3-2b表示的基团、由上式3-3b表示的基团或由上式3-8b表示的基团。
[0107]
在一实施方案中，二羰基化合物可以包括至少两种彼此不同的二羰基化合物的混合物。如果使用两种或两种以上二羰基化合物，则上式3中的(j)j选自上式3-1b至3-8b表示的基团中的至少两种二羰基化合物可以用作二羰基化合物。
[0108]
在另一实施方案中，二羰基化合物可以是包括芳香结构的芳香族二羰基化合物。
[0109]
二羰基化合物可包括如下式所示的对苯二甲酰氯(tpc)、1,1'-联苯-4,4'-二羰基二氯(bpdc)、间苯二甲酰氯(ipc)，或它们的组合。但不限于此。优选地，tpc和ipc可以一起使用。
[0110][0111][0112][0113]
在一实施方案中，聚酰胺基聚合物可以包括两种或更多种类型的酰胺基重复单元。
[0114]
例如，两种或更多种类型的酰胺基重复单元可以包括第一酰胺基重复单元和第二酰胺基重复单元。第一酰胺基重复单元可以通过使第一二羰基化合物与二胺化合物反应来
形成。第二酰胺基重复单元可以通过使第二二羰基化合物与二胺化合物反应来形成。
[0115]
第一二羰基化合物和第二二羰基化合物可以是彼此不同的化合物。
[0116]
第一二羰基化合物和第二二羰基化合物可分别包括两个羰基。包括在第一二羰基化合物中的两个羰基之间的角度可以大于包括在第二二羰基化合物中的两个羰基之间的角度。
[0117]
在一些实施方案中，第一二羰基化合物和第二二羰基化合物可以是彼此的结构异构体。由于使用具有结构异构关系的两种二羰基化合物，可以形成满足上述等式1和/或等式2的聚酰胺基聚合物和薄膜，从而提高聚酰胺基薄膜的光学性能和机械性能。
[0118]
第一二羰基化合物和第二二羰基化合物可以分别是芳香族二羰基化合物。在一些实施方案中，第一二羰基化合物和第二二羰基化合物可各自具有一个苯环(苯基)。
[0119]
例如，第一二羰基化合物和第二二羰基化合物可以是彼此不同的芳香族二羰基化合物，但不限于此。
[0120]
如果第一二羰基化合物和第二二羰基化合物分别是芳香族二羰基化合物，则它们包括苯环。因此，它们可以有助于改善包括以此制备的聚酰胺基聚合物的薄膜的机械性能，例如表面硬度和拉伸强度。
[0121]
例如，包括在第一二羰基化合物中的两个羰基之间的角度可以是160至180
°
，并且包括在第二二羰基化合物中的两个羰基之间的角度可以是80至140
°
。
[0122]
例如，二羰基化合物可以包括第一二羰基化合物和/或第二二羰基化合物。
[0123]
例如，第一二羰基化合物可以包括tpc，第二二羰基化合物可以包括ipc，但不限于此。
[0124]
如果以适当的组合使用tpc作为第一二羰基化合物和ipc作为第二二羰基化合物，则包括以此制备的聚酰胺基树脂的薄膜可以具有高透射率、低雾度、高透明度和高模量，以及增强的耐光性。
[0125]
二胺化合物和二羰基化合物可以聚合形成由下式b表示的重复单元。[式b]
[0126][0127]
在式b中，e、j、e和j如上所述。
[0128]
例如，二胺化合物和二羰基化合物可以聚合形成由下式b-1和b-2表示的酰胺重复单元。
[0129]
[式b-1]
[0130][0131]
在式b-1中，y为1至400的整数。
[0132]
[化合物b-2]
[0133][0134]
式b-2中，y为1至400的整数。
[0135]
在一些实施方案中，第一酰胺基重复单元与第二酰胺基重复单元的摩尔比可以为21:79至79:21。由于第一和第二酰胺基重复单元的摩尔比设置在上述范围内，因此聚酰胺基薄膜的耐光指数和/或耐光变指数可以被调整到满足上述等式1和2的范围。因此，聚酰胺基薄膜的机械和光学性能以及耐光性可以得到改善。优选地，第一酰胺基重复单元与第二酰胺基重复单元的摩尔比可以为25:75至75:25、30:70至75:25、30:70至70:30、35:65至75:25、或40:60至75:25。
[0136]
二酐化合物没有特别限制，但它可以包括环状二酐化合物。例如，二酐化合物可以降低聚酰胺基树脂的双折射特性并增强聚酰胺基薄膜的透射率等光学性能。
[0137]
在一些实施方案中，环状二酐化合物可以包括脂环族二酐化合物或芳香族二酐化合物。
[0138]
脂环族二酐化合物可以包括其中两个酸酐基团在脂环结构中被取代的化合物。脂环结构可以包括4至12个碳并且可以是完全饱和的或部分不饱和的。具体地，脂环族二酐化合物可以包括例如1,2,3,4-环丁烷四羧酸二酐(cbda)。
[0139]
芳香族二酐化合物可以包括其中两个酸酐基团在具有6至30个碳原子的芳香环中被取代的化合物。芳香环可以包括苯、稠环如萘或连接环如联苯。例如，芳香族二酐化合物可以包括例如3,3',4,4'-联苯四羧酸二酐(bpda)。
[0140]
二酐化合物中的两个酸酐基可以直接被环状烃基取代，也可以在脂环或芳香环中的相互对称的位置上被取代。在这种情况下，可以提高聚酰胺基薄膜的硬度和对压痕的恢复力。
[0141]
在一实施方案中，二酐化合物可以不包括含氟取代基。例如，当二酐化合物含有氟基团时，薄膜的塑料成分可能会过度增加；因此，它的柔性和对压痕的恢复力可能会降低。
[0142]
例如，二酐化合物可以包括由下式2表示的化合物。
[0143]
[式2]
[0144][0145]
在式2中，g是取代或未取代的四价c
4-c
12
脂肪族环状基团、取代或未取代的四价c
4-c
12
脂肪族杂环基团、取代或未取代的四价c
6-c
30
芳环基团或取代或未取代的四价c
4-c
30
杂芳环基团，其中脂肪族环状基团、脂肪族杂环基团、芳环基团或杂芳环基团可以单独存在，彼此稠合形成稠环，或通过选自-o-、-s-、-c(＝o)-和-s(＝o)
2-的键合基团键合。
[0146]
上式2中的g可以选自下式2-1a至2-9a表示的基团，但不限于此。
[0147][0148]
例如，式2中的g可以是上式2-2a表示的基团、上式2-8a表示的基团或上式2-9a表示的基团。
[0149]
例如，二酐化合物可以包括由下式表示的2,2'-双-(3,4-二羧基苯基)六氟丙烷二酐(6-fda)，但不限于此。
[0150][0151]
二胺化合物和二酐化合物可以聚合形成酰胺酸基团(amic acid group)。
[0152]
随后，可以通过脱水反应将酰胺酸基团转化为酰亚胺基团。在这种情况下，可以形成包括聚酰亚胺链段和聚酰胺链段的聚酰胺-酰亚胺基聚合物。
[0153]
聚酰亚胺链段可以形成由下式a表示的重复单元。
[0154]
[式a]
[0155][0156]
在式a中，e、g和e如上所述。
[0157]
例如，聚酰亚胺链段可以包括由下式a-1表示的重复单元，但不限于此。
[0158]
[式a-1]
[0159][0160]
在式a-1中，n可以为1至400的整数。
[0161]
在一些实施方案中，聚酰胺基聚合物可以包括摩尔比为100:0至90:0的酰胺基重复单元和酰亚胺基重复单元。在这种情况下，可以同时改善聚酰胺基薄膜的柔性、机械强度等机械性能和透明性、透射率、雾度等光学性能。
[0162]
优选地，聚酰胺基聚合物可以不包括酰亚胺基重复单元。在这种情况下，耐光指数和/或耐光变指数可以被有效地调整到上述范围。因此，可以增强聚酰胺基薄膜的耐光性。
[0163]
在一些实施方案中，聚酰胺基薄膜可包括蓝颜料。蓝颜料可以包括由toyo制造的op-1300a，但不限于此。
[0164]
在一些实施方案中，基于聚酰胺基聚合物的总重量，可以以50至5,000ppm的量使用蓝颜料。在这种情况下，薄膜耐光性测试前后的黄指数可能会降低。优选地，基于聚酰胺基聚合物的总重量，可以以100ppm至5,000ppm、200ppm至5,000ppm、300ppm至5,000ppm、400ppm至5,000ppm、50ppm至3,000ppm、100ppm至3,000ppm、200ppm至3,000ppm、300ppm至3,000ppm、400ppm至3,000ppm、50ppm至2,000ppm、100ppm至2,000ppm、200ppm至2,000ppm、300ppm至2,000ppm、400ppm至2,000ppm、50ppm至1,000ppm、100ppm至1,000ppm、20ppm至1000ppm、300ppm至1,000ppm或400ppm至1,000ppm的量使用蓝颜料。
[0165]
在一些实施方案中，聚酰胺基薄膜还可包括uva吸收剂。uva吸收剂可以包括吸收本领域中使用的波长为10至400nm的电磁波的吸收剂。例如，uva吸收剂可以包括苯并三唑基的化合物。苯并三唑基的化合物可以包括n-酚基苯并三唑基化合物。在一些实施方案中，n-酚基苯并三唑基化合物可以包括其中酚基被具有1至10个碳原子的烷基取代的n-酚基苯并三唑。它可以被两个或更多个烷基取代，烷基可以是直链的、支链的或环状的。
[0166]
在一些实施方案中，基于聚酰胺基聚合物的总重量，uva吸收剂的用量可以为0.1至10重量％。在这种情况下，可以增强薄膜的耐光性。优选地，相对于聚酰胺基聚合物的总重量，uva吸收剂的用量可以为0.1重量％至5重量％、0.1重量％至3重量％、0.1重量％至2重量％、0.5重量％至10重量％、0.5重量％至5重量％、0.5重量％至3重量％、0.5重量％至2重量％、1重量％至10重量％、1重量％至5重量％、1重量％至3重量％或1重量％至2重量％。
[0167]
在一些实施方案中，聚酰胺基薄膜可以同时包括蓝颜料和uva吸收剂。在这种情况下，可以降低薄膜的黄指数，提高其透明度，并且可以降低耐光性测试时的黄指数的增加率和差。
[0168]
在一些实施方案中，基于50μm的厚度，聚酰胺基薄膜可以具有4μm或更小的厚度偏差。厚度偏差可以是指相对于在薄膜的10个随机点处测量的厚度的平均值之间最大值或最小值的偏差。在这种情况下，由于聚酰胺基薄膜具有均匀的厚度，其在各点的光学性能和机械性能可以一致性地表现出来。
[0169]
聚酰胺基薄膜可以具有1％或更小的雾度。例如，雾度可以为0.7％或更小或0.5％或更小，但不限于此。
[0170]
聚酰胺基薄膜可以具有80％或更大的透射率。例如，透射率可以是82％或更大、85％或更大、88％或更大、89％或更大、80％至99％、88％至99％或89％至99％，但不仅限于此。
[0171]
聚酰胺基薄膜可以具有3或更小的黄指数。例如，黄指数可以为2.8或更小或者2.5或更小，但不限于此。
[0172]
聚酰胺基薄膜可以具有4gpa或更大的模量(y)。具体地，模量可以是5gpa或更大、6gpa或更大、6.3gpa或更大或6.5gpa或更大，但不限于此。
[0173]
聚酰胺基薄膜可以具有0.4kgf/μm或更大的抗压强度。具体地，抗压强度可以为0.45kgf/μm或更大，或者0.46kgf/μm或更大，但不限于此。
[0174]
当在utm压缩模式下使用2.5-mm球形尖端以10mm/min的速度对聚酰胺基薄膜进行穿孔时，包括裂缝的穿孔的最大直径(mm)为60mm或更小。具体地，穿孔的最大直径可以是5mm至60mm、10mm至60mm、15mm至60mm、20mm至60mm、25mm至60mm或25mm至58mm，但不限于此。
[0175]
聚酰胺基薄膜可以具有hb或更高的表面硬度。具体地，表面硬度可以是h或更高，或者2h或更高，但不限于此。
[0176]
聚酰胺基薄膜可以具有15kgf/mm2或更大的拉伸强度。具体地，抗拉强度可以为18kgf/mm2或更大、20kgf/mm2或更大、21kgf/mm2或更大，或22kgf/mm2或更大，但不限于此。
[0177]
聚酰胺基薄膜可以具有15％或更大的伸长率。具体地，伸长率可以为16％或更大、17％或更大，或17.5％或更大，但不限于此。
[0178]
根据一实施方案的聚酰胺基薄膜的柔性和透明度可以被提高，并且由紫外线引起的透明度和颜的变化可以被抑制。
[0179]
上述聚酰胺基薄膜的物理性能基于40μm至60μm的厚度。例如，聚酰胺基薄膜的物理性能基于50μm的厚度。
[0180]
如上所述的聚酰胺基薄膜的组分和性能的特征可以相互组合。
[0181]
例如，聚酰胺基薄膜包括聚酰胺基聚合物并且可以具有80％或更大的透射率、1％或更小的雾度，和3或更小的黄指数。
[0182]
此外，上述聚酰胺基薄膜的耐光指数和耐光变指数可以通过构成聚酰胺基薄膜的成分的化学性能、物理性能的组合，以及在如下所述的制备聚酰胺基薄膜的方法的每个步骤中的条件一起进行调整。
[0183]
例如，将构成聚酰胺基薄膜的成分的组成和含量、薄膜制备过程中的聚合条件和热处理条件等全部组合起来以获得期望范围的耐光指数和/或耐光变指数。
[0184]
用于显示装置的覆盖窗
[0185]
根据一实施方案的用于显示装置的覆盖窗包括聚酰胺基薄膜和功能层。
[0186]
聚酰胺基薄膜包括聚酰胺基聚合物，其中由上述等式1表示的耐光指数为0.660gpa-1
或更小。
[0187]
聚酰胺基薄膜的详细内容如上所述。
[0188]
用于显示装置的覆盖窗可以有利地应用于显示装置。
[0189]
由于聚酰胺基薄膜具有在上述范围内的耐光指数，它可以具有优异的光学和机械性能，并且其对紫外线的耐光性可以增强。
[0190]
显示装置
[0191]
根据一实施方案的显示装置包括显示单元；以及设置在所述显示单元上的覆盖窗，其中所述覆盖窗包括聚酰胺基薄膜和功能层。
[0192]
聚酰胺基薄膜包括聚酰胺基聚合物，其中由上述等式1表示的耐光指数为0.660gpa-1
或更小。
[0193]
聚酰胺基薄膜和覆盖窗的详细内容如上所述。
[0194]
图1是根据一实施方案的显示装置的示意性分解图。图2是根据一实施方案的显示装置的示意性透视图。图3是根据一实施方案的显示装置的示意性截面图。
[0195]
具体地，图1至图3示出了一种显示装置，其包括显示单元(400)和设置在显示单元(400)上的覆盖窗(300)，其中覆盖窗包括具有第一侧(101)和第二侧(102)的聚酰胺基薄膜(100)和功能层(200)，并且粘合层(500)被插入在显示单元(400)和覆盖窗(300)之间。
[0196]
显示单元(400)用于显示图像，并且它可以具有柔性特性。
[0197]
显示单元(400)可以是用于显示图像的显示面板。例如，它可以是液晶显示面板或有机电致发光显示面板。有机电致发光显示面板可以包括前偏光板和有机el面板。
[0198]
前偏光板可以设置在有机el面板的前侧。具体地，前偏光板可以附着在有机el面板中显示图像的一侧。
[0199]
有机el面板可以通过像素单元的自发光来显示图像。有机el面板可以包括有机el基板和驱动基板。有机el基板可以包括多个有机电致发光单元，每个有机电致发光单元对应于一个像素。具体地，它可以包括阴极、电子传输层、发光层、空穴传输层和阳极。驱动基板可操作地耦合到有机el基板。即，驱动基板可以耦合到有机el基板以施加驱动信号，例如驱动电流，从而驱动基板可以通过向各个有机电致发光单元施加电流来驱动有机el基板。
[0200]
此外，可以在显示单元(400)和覆盖窗(300)之间插入粘合层(500)。粘合层可以是光学透明的粘合层，但没有特别限制。
[0201]
覆盖窗(300)可以设置在显示单元(400)上。覆盖窗位于显示装置的外部位置，从而保护显示单元。
[0202]
覆盖窗(300)可以包括聚酰胺基薄膜和功能层。功能层可以是选自由硬涂层、反射
率降低层、防污层和防眩层组成的组中的至少一种。功能层可以涂覆在聚酰胺基膜的至少一侧上。
[0203]
根据一实施方案的聚酰胺基薄膜可以以薄膜的形式应用于显示装置的外部，而不改变显示驱动方法、面板内部的滤器或层压结构，从而提供一种具有均匀厚度、低雾度、高透光率、高透明度的显示装置。由于不需要显著的工艺改变或成本增加，其优点在于可以降低生产成本。
[0204]
根据一实施方案的聚酰胺基薄膜可以在高透射率、低雾度和低黄指数方面具有优异的光学性能，并且可以具有优异的机械性能例如模量和柔性，以及当暴露在紫外线下时，其光学和机械性能的变化(退化)可以受到抑制。
[0205]
具体地，具有上述范围内的耐光指数和/或耐光变指数的聚酰胺基薄膜具有优异的透明度、柔性和耐光性。因此，即使在室外等紫外线强烈照射的环境中，其也能长期保持透明度和柔性。因此，其可以有利地应用于户外柔性显示装置、便携式柔性位移装置等。
[0206]
聚酰胺基薄膜的制备方法
[0207]
一实施方案提供了一种制备聚酰胺基薄膜的方法。
[0208]
根据一实施方案的制备聚酰胺基薄膜的方法包括聚合二胺化合物和二羰基化合物以制备有机溶剂中包括聚酰胺基聚合物的溶液；浇铸溶液，然后将其干燥以制备凝胶片；以及对凝胶片进行热处理。
[0209]
参考图4，根据一实施方案的制备聚酰胺基薄膜的方法包括在有机溶剂中聚合二胺化合物和二羰基化合物以制备包括聚酰胺基聚合物的溶液(s100)；浇铸聚合物溶液以制备凝胶片(s200)；以及对凝胶片进行热处理(s300)。
[0210]
根据一些实施方案的制备聚酰胺基薄膜的方法可以进一步包括调节聚酰胺基聚合物溶液的粘度(s110)、使聚酰胺基聚合物溶液老化(s120)、和/或对聚酰胺基聚合物进行脱气(s130)。
[0211]
聚酰胺基薄膜是以聚酰胺基聚合物为主要成分的薄膜。聚酰胺基聚合物是包括酰胺重复单元作为结构单元的树脂。任选地，聚酰胺基聚合物可以包括酰亚胺重复单元。
[0212]
在制备聚酰胺基薄膜的方法中，用于制备聚酰胺基聚合物的聚合物溶液可以通过在反应器中的有机溶剂中同时或依次混合二胺化合物和二羰基化合物，并使混合物反应来制备(s100)。
[0213]
在一实施方案中，制备聚合物溶液的步骤可以包括使二胺化合物和二羰基化合物在溶剂中混合并反应以产生聚酰胺(pa)溶液。聚酰胺溶液是包括具有酰胺重复单元的聚合物的溶液。
[0214]
在一实施方案中，制备聚合物溶液的步骤可以通过使用彼此不同的两种二羰基化合物作为二羰基化合物来进行。在这种情况下，两种二羰基化合物可以同时或依次混合和反应。优选地，第一二羰基化合物和二胺化合物可以反应形成预聚物，并且预聚物和第二二羰基化合物可以反应形成聚酰胺基聚合物。在这种情况下，可以容易地调节聚酰胺基聚合物的耐光指数和/或耐光变指数。
[0215]
二胺化合物和二羰基化合物的详细内容如上所述。
[0216]
在一实施方案中，该方法还可以包括在制备聚合物溶液的步骤之后调整聚合物溶液(s110)的粘度。聚合物溶液的粘度在室温下可为200,000cps至350,000cps。在这种情况
下，可以提高聚酰胺基薄膜的成膜能力，从而提高厚度均匀性。
[0217]
具体地，制备聚合物溶液的步骤可以包括将二胺化合物和二羰基化合物在有机溶剂中同时或依次混合并反应以制备第一聚合物溶液；以及进一步加入二羰基化合物，以制备出具有目标粘度的第二聚合物溶液。
[0218]
在制备第一聚合物溶液和第二聚合物溶液的步骤中，搅拌速度可以彼此不同。例如，制备第一聚合物溶液时的搅拌速度可以快于制备第二聚合物溶液时的搅拌速度。
[0219]
在一些实施方案中，当制备第一聚合物溶液时，第一二羰基化合物和第二二羰基化合物可依次与二胺化合物反应。在这种情况下，可以形成粘度为1,000cps至10,000cps的第一聚合物溶液。优选地，第一聚合物溶液的粘度可以是1,000cps至8,000cps、1,000cps至5,000cps、2,000cps至10,000cps、2,000cps至8,000cps、2,000cps至5,000cps、3,000cps至10,000cps、3,000cps至8,000cps或3,000cps至5,000cps。
[0220]
在一些实施例中，第二二羰基化合物可进一步与第一聚合物溶液反应以形成粘度为200,000cps至350,000cps的第二聚合物溶液。例如，使第二二羰基化合物进一步反应的步骤可以用作粘度调节步骤。
[0221]
由于通过第一聚合物溶液和第二聚合物溶液调节聚酰胺基聚合物溶液的粘度，可以有效地实现期望范围内的耐光指数和耐光变指数。
[0222]
例如，可以通过控制第一二羰基化合物和第二二羰基化合物的添加顺序和添加量来调节聚合物溶液的粘度、耐光指数和耐光变指数。
[0223]
用于制备聚合物溶液的第一二羰基化合物与第二二羰基化合物的摩尔比可以为21:79至79:21，优选为25:75至75:25、30:70至75:25、30:70至70:30、35:65至75:25或40:60至75:25。
[0224]
通过以这样的比例使用第一二羰基化合物和第二二羰基化合物，可以制备耐光指数和/或耐光变指数在上述范围内的聚酰胺基聚合物，以提高聚酰胺基薄膜的模量、雾度、透光率、黄指数、耐光性等。
[0225]
在一些实施方案中，当形成聚合物溶液(第一聚合物溶液)时，二酐化合物与二胺化合物反应以形成聚酰胺酸或聚酰亚胺。然后，聚酰胺酸或聚酰亚胺可以与二羰基化合物反应以形成包括聚酰胺-酰亚胺的聚合物溶液。在这种情况下，可以使用如上所述的二酐化合物。基于二羰基化合物和二酐化合物的总量，其用量可为1摩尔％至10摩尔％、1摩尔％至3摩尔％或1摩尔％至5摩尔％。在这种情况下，可以将聚合物溶液、第一聚合物溶液和第二聚合物溶液的粘度调节到期望的范围，并且可以制备得到耐光指数和/或耐光变指数在期望范围的聚酰胺基薄膜。在一些实施方案中，二酐化合物可以不用于形成聚合物溶液。在这种情况下，可以形成不包括酰亚胺重复单元的聚酰胺基聚合物。
[0226]
在一实施方案中，溶剂、二胺化合物和二羰基化合物的混合和反应可以在-20至25℃的温度下进行。如果在上述温度范围外，则形成的聚合核过少或过多，难以形成耐光指数和耐光变指数在所期望范围内的聚酰胺基聚合物。因此，聚酰胺基薄膜的机械性能和光学性能可能降低。此外，聚合物溶液的粘度可以小于预定范围。优选地，二胺化合物和二羰基化合物的反应可以在-20℃至20℃、-20℃至15℃、-20℃至10℃、-15℃至20℃、-15℃至15℃、-15℃至10℃、-10℃至20℃、-10℃至15℃、-10℃至10℃、-8℃至20℃、-8℃至15℃、-8℃至10℃、-5℃至20℃、-5℃至15℃或-5℃至10℃的温度下进行。
[0227]
在一实施方案中，二胺化合物和二酐化合物的混合和反应可以在0至50℃的温度下进行。如果在上述温度范围外，则形成的聚合核过少或过多，难以形成耐光指数和耐光变指数在所期望范围内的聚酰胺基聚合物。因此，聚酰胺基薄膜的机械性能和光学性能可能降低。此外，聚合物溶液的粘度可以小于预定范围。优选地，二胺化合物和二酐化合物的混合和反应可以在0℃至45℃、0℃至40℃、10℃至50℃、10℃至45℃、10℃至40℃、20℃至50℃、20℃至45℃或20℃至40℃的温度下进行。
[0228]
聚合物溶液中所含的固体含量可为10重量％至30重量％，但不限于此。
[0229]
如果聚合物溶液中所含的固体含量在上述范围内，则可以在浇铸步骤中有效地制备聚酰胺基薄膜。此外，由此制备的聚酰胺基薄膜可以具有增强的机械性能和光学性能。
[0230]
在又一实施方案中，制备聚合物溶液的步骤可以进一步包括调节聚合物溶液的ph值。在该步骤中，可以将聚合物溶液的ph调节至4至7，例如4.5至7。
[0231]
可以通过添加ph调节剂来调节聚合物溶液的ph。ph调节剂没有特别限定，可以包括例如烷氧胺、烷基胺、烷醇胺等胺系化合物。
[0232]
通过将聚合物溶液的ph调节至上述范围，可以防止在由聚合物溶液制成的薄膜中出现缺陷，并且可以在黄指数和模量方面实现期望的光学性能和机械性能。
[0233]
基于聚合物溶液中单体的总摩尔数，ph调节剂可以以0.1摩尔％至10摩尔％的量使用。
[0234]
在一实施方案中，有机溶剂可以是选自二甲基甲酰胺(dmf)、二甲基乙酰胺(dmac)、n-甲基-2-吡咯烷酮(nmp)、间甲酚、四氢呋喃(thf)和氯仿组成的组中的至少一种。聚合物溶液中使用的有机溶剂可以是二甲基乙酰胺(dmac)，但不限于此。
[0235]
在一些实施方案中，可以将蓝颜料和uva吸收剂中的至少一种添加到聚合物溶液中。蓝颜料和uva吸收剂的类型和含量如上所述。蓝颜料和uva吸收剂可以与聚合物溶液中的聚酰胺基聚合物混合。
[0236]
聚合物溶液可储存在-20℃至20℃、-20℃至10℃、-20℃至5℃、-20℃至0℃或0℃至10℃。
[0237]
如果在上述温度下保存，则可以防止聚合物溶液的降解并降低水分含量，从而防止由此产生的薄膜的缺陷。
[0238]
在一些实施方案中，聚合物溶液或其粘度已被调节的聚合物溶液可被老化(s120)。
[0239]
老化可以通过将聚合物溶液在-10至10℃的温度下放置24小时或更长时间来进行。在这种情况下，例如，包括在聚合物溶液中的聚酰胺基聚合物或未反应的材料可以完成反应或达到化学平衡，由此可以使聚合物溶液均质化。由此形成的聚酰胺基薄膜的机械性能和光学性能在薄膜的整个区域上可以是基本一致的。优选地，老化可以在-5℃至10℃、-5℃至5℃或-3℃至5℃的温度下进行。
[0240]
在一实施方案中，该方法可以进一步包括对聚酰胺基聚合物溶液进行脱气(s130)。脱气步骤可以去除聚合物溶液中的水分并减少杂质，从而提高反应产率，并赋予最终制备的薄膜优异的表面形态和机械性能。
[0241]
脱气可包括真空脱气或用惰性气体吹扫。
[0242]
在将容纳聚合物溶液的罐的内部压力降至0.1巴至0.7巴后，可以进行真空脱气30
分钟至3小时。在这些条件下的真空脱气可以减少聚合物溶液中的气泡。因此，可以防止由此制备的薄膜的表面缺陷，实现雾度等优异的光学性能。
[0243]
具体地，可以通过用内压为1atm至2atm的惰性气体对罐进行吹扫。在这些条件下的吹扫可以去除聚合物溶液中的水分，减少杂质，从而提高反应产率，并获得雾度等优异的光学性能和机械性能。
[0244]
惰性气体可以是选自氮气、氦气(he)、氖气(ne)、氩气(ar)、氪气(kr)、氙气(xe)和氡气(rn)组成的组中的至少一种，但不限于此。具体地，惰性气体可以是氮气。
[0245]
真空脱气和用惰性气体吹扫可以在分开的步骤中进行。
[0246]
例如，可以进行真空脱气步骤，然后进行用惰性气体吹扫的步骤，但不限于此。
[0247]
真空脱气和/或用惰性气体吹扫可以改善由此制备的聚酰胺基薄膜的表面的物理性能。
[0248]
一旦如上所述制备了在有机溶剂中包括聚酰胺基聚合物的溶液，就可以将填料添加到溶液中。
[0249]
填料具有60nm至180nm的平均粒径和1.55至1.75的折射率。基于聚酰胺基聚合物的固体成分的总重量，其含量为100ppm至3,000ppm。关于填料的详细内容如上所述。
[0250]
可以浇铸聚合物溶液以制备凝胶片(s200)。
[0251]
例如，聚合物溶液可以在载体上被挤出、涂布和/或干燥以形成凝胶片。
[0252]
此外，聚合物溶液的浇铸厚度可以为200μm至700μm。由于聚合物溶液被浇铸的厚度在上述范围内，干燥和热处理后制成的最终薄膜可以具有适当且均匀的厚度。
[0253]
如上所述，聚合物溶液在室温下可具有200,000cps至350,000cps的粘度。由于粘度满足上述范围，聚合物溶液可以被浇铸到没有缺陷的均匀厚度，并且可以形成具有基本均匀厚度的聚酰胺基膜，而在干燥过程中没有局部/部分厚度变化。此外，可以制备具有如上所述的耐光指数和/或耐光变指数的薄膜。
[0254]
将如此浇铸的聚合物溶液在60℃至150℃的温度下干燥5分钟至60分钟以制备凝胶片。具体地，将聚合物溶液在70℃至90℃的温度下干燥15分钟至40分钟以制备凝胶片。
[0255]
聚合物溶液的溶剂可以在干燥过程中部分或全部挥发以制备凝胶片。
[0256]
可以对干燥的凝胶片进行热处理以形成聚酰胺基薄膜(s300)。
[0257]
凝胶片的热处理例如可以通过热固性装置进行。
[0258]
热固性装置可以通过热空气对凝胶片进行热处理。
[0259]
如果用热空气进行热处理，则可以均匀地供应热量。如果供热不均匀，则无法获得令人满意的表面粗糙度，这可能会过度提高或降低表面能。
[0260]
凝胶片的热处理可以在60℃至500℃的温度范围内进行5分钟至200分钟。具体地，凝胶片的热处理可以在80℃至300℃的温度范围内以1.5℃/分钟至20℃/分钟的升温速率进行10分钟至150分钟。
[0261]
在这种情况下，凝胶片的热处理的初始温度可以为60℃或更高。具体地，凝胶片的热处理的初始温度可以为80℃至180℃。
[0262]
此外，热处理的最高温度可以是300℃至500℃。例如，热处理的最高温度可以是350℃至500℃、380℃至500℃、400℃至500℃、410℃至480℃、410℃至470℃或410℃至450℃。
[0263]
根据一实施方案，凝胶片的热处理可以分两个或更多个步骤进行。
[0264]
具体地，热处理可以包括在60℃至120℃范围内进行5分钟至30分钟的第一热空气处理步骤；以及在120℃至350℃范围内进行10分钟至120分钟的第二热空气处理步骤。
[0265]
在这些条件下的热处理可以使凝胶片固化成具有适当的表面硬度、模量和表面能，并且可以同时确保固化膜的高透光率、低雾度和适当水平的光泽度。
[0266]
根据一实施方案，热处理可以包括使其通过ir加热器。ir加热器的热处理可以在300℃或更高的温度范围内进行1分钟至30分钟。具体地，ir加热器的热处理可以在300℃至500℃的温度范围内进行1分钟至20分钟。
[0267]
通过如上所述的制备方法制备聚酰胺基薄膜，使得该薄膜可以具有如上所述的耐光指数和耐光变指数，并且其可以具有优异的光学性能、机械性能和耐光性。
[0268]
聚酰胺基薄膜可以应用于需要柔性、透明度和一定水平亮度的各种用途。例如，聚酰胺基薄膜可以应用于太阳能电池、显示器、半导体器件、传感器等。
[0269]
特别是，由于聚酰胺基薄膜具有优异的机械、光学性能和耐光性，因此其可以有利地应用于显示装置的覆盖窗和显示装置。由于其具有优异的折叠特性，因此其可以有利地应用于可折叠显示装置或柔性显示装置。
[0270]
通过上述聚酰胺基薄膜的制备方法制备的聚聚酰胺基薄膜的详细内容如上所述。
[0271]
实施本发明的实施方案
[0272]
在下文中，将参考以下实施例更详细地描述本发明。然而，这些实施例仅用于说明本发明，本发明的范围不限于此。
[0273]
《实施例1》
[0274]
在氮气气氛下，在10℃下，将567g作为有机溶剂的二甲基乙酰胺(dmac)装入配备有温度可控双层夹套的1升玻璃反应器中。然后，将64.0g(0.200摩尔)作为芳香族二胺的2,2'-双(三氟甲基)-4,4'-二氨基联苯(tfmb)缓慢加入其中并溶解。
[0275]
随后，缓慢加入30.37克(0.15摩尔)对苯二甲酰氯(tpc)，搅拌混合物1小时。然后，加入9.13g(0.05摩尔；引入总量的94摩尔％)间苯二甲酰氯(ipc)，接着搅拌混合物1小时，由此制备得到第一聚合物溶液。第一聚合物溶液的粘度约为1,000cps至10,000cps。
[0276]
然后，将1ml在dmac溶剂中的浓度为10重量％的ipc溶液添加到第一聚合物溶液中，接着搅拌混合物30分钟。重复该过程，由此制备得到粘度为约250,000cps的第二聚合物溶液。在此，添加了约12.18g ipc溶液。ipc的添加量对应于在第一聚合物溶液的制备中相对于tfmb的总摩尔数添加的tpc和ipc的摩尔数的平衡量。
[0277]
将第二聚合物溶液涂布在玻璃板上，然后用热空气在100℃下干燥30分钟。将干燥后的聚酰胺聚合物材料从玻璃板上剥离，固定在针框上，在80℃至300℃的温度范围内以2℃/分钟的升温速度进行热处理，得到具有厚度为50μm的聚酰胺薄膜。
[0278]
《实施例2-5和对比例》
[0279]
以与实施例1中相同的方式制备聚酰胺薄膜，不同之处在于如下表1和2中所示改变二羰基化合物的含量。
[0280]
在对比例4-7中，在添加tpc之前，添加bpda和6-fda并与tfmb反应。bpda和6-fda与tfmb在约30℃反应后，将反应器温度降至10℃，并加入tpc。
[0281]
在实施例4和5以及对比例5和7中，将蓝颜料(由toyo inc.制造的op-1300a)和/
或uva吸收剂(由basf制造的tinuvin 328)添加到第二聚合物溶液中。基于第二聚合物溶液的总重量，蓝颜料的添加量为500ppm，基于第二聚合物溶液的总重量，uva吸收剂的添加量为1.25重量％。
[0282]
《评估实施例》
[0283]
对实施例和对比例中制备的薄膜分别测量和评估以下性能。结果如下表1所示。
[0284]
评估例1：模量的测量
[0285]
在垂直于薄膜的主收缩方向的方向上切出至少10cm并且在主收缩方向上切出10cm的样品。在instron的通用试验机utm 5566a中，通过设置间隔10cm的夹子将其进行固定。在室温下以12.5毫米/分钟的速度拉伸样品直至断裂，获得应力-应变曲线。将应力-应变曲线上的载荷相对于初始应变的斜率作为模量(gpa)。
[0286]
评估例2：透射率和雾度的测量
[0287]
根据jis k 7136标准，使用由日本电装工业株式会社(nippon denshoku kogyo)制造的雾度计ndh-5000w测量透光率和雾度。
[0288]
评估例3：黄指数的测量
[0289]
黄指数(yi)是根据astm-e313标准在d65和10
°
的条件下用分光光度计(ultrascan pro,hunter associates laboratory)测量的。
[0290]
评估例4：颜指数的测量
[0291]
使用hunterlab的ultrascan pro根据cie lab颜坐标测量薄膜的颜指数。
[0292]
评估例5：耐光性评估
[0293]
使用加速老化测试仪(quv/spray，由q-lab制造)将根据以下条件的重复耐光性测试循环12次。耐光性测试后再次测量黄指数和颜指数。计算出δyi、δe、δyi/y和δyi/δe并示于下表1和2中(y：模量)。在此，δe根据以下等式3计算。
[0294]
耐光性测试循环：在60℃下以0.63w/m2的强度将波长340nm的光照射到薄膜样品上4小时。然后，停止uv照射，在50℃下放置4小时，同时向其喷水时。
[0295]
[等式3]
[0296][0297]
等式3中，l
*
、a
*
和b
*
分别为耐光测试后根据cie lab颜坐标的l、a和b值，lab颜坐标的l、a和b值，分别为耐光测试前根据cie lab颜坐标的l、a和b值。
[0298]
[表1]
[0299][0300]
[表2]
[0301][0302]
参照表1和表2，根据本实施方案的将耐光指数调整为0.660gpa-1
或更小的这些实施例中的薄膜与耐光指数在本实施方案范围外的对比例相比具有优异的模量和更好的透光率和雾度。此外，在耐光性测试前后它们的黄指数变化率和的差降低，证实了由紫外线引起的颜变化和光学性能退化被有效地防止。
[0303]
附图标记
[0304]
100：聚酰胺基薄膜
[0305]
101：第一侧
ꢀꢀꢀ
102：第二侧
[0306]
200：功能层
ꢀꢀꢀ
300：覆盖窗
[0307]
400：显示单元 500：粘合层
技术特征：
1.一种聚酰胺基薄膜，所述薄膜包括聚酰胺基聚合物并且具有0.660gpa-1
或更小的耐光指数，所述耐光指数由以下等式1表示：[等式1]耐光指数＝δyi/y等式1中，y为所述薄膜的模量，δyi为在60℃下对所述薄膜照射紫外线，停止紫外线照射，并在50℃喷水的耐光性测试前后的所述薄膜的黄指数(yi)变化率。2.根据权利要求1所述的聚酰胺基薄膜，其中，所述δyi为4.5或更小，所述y为4或更大。3.根据权利要求1所述的聚酰胺基薄膜，所述薄膜具有1.55至1.64的耐光变指数，所述耐光变指数由以下等式2表示：[等式2]耐光变指数＝δyi/δe等式2中，δe为所述薄膜在耐光测试前后的差。4.根据权利要求1所述的聚酰胺基薄膜，其中所述聚酰胺基聚合物包括来源于第一二羰基化合物的第一酰胺基重复单元和来源于第二二羰基化合物的第二酰胺基重复单元，包括在第一二羰基化合物中的两个羰基之间的角度大于包括在第二二羰基化合物中的两个羰基之间的角度，以及来源于第一二羰基化合物的重复单元与来源于第二二羰基化合物的重复单元的摩尔比为21:79至79:21。5.根据权利要求1所述的聚酰胺基薄膜，所述薄膜还包括选自由蓝颜料和uva吸收剂组成的组中的至少一种。6.一种根据权利要求1所述的聚酰胺基薄膜的制备方法，所述方法包括：在有机溶剂中聚合二胺化合物和二羰基化合物以制备包括聚酰胺基聚合物的溶液；浇铸溶液以制备凝胶片；以及对凝胶片进行热处理。7.根据权利要求6所述的聚酰胺基薄膜的制备方法，其中，所述二胺化合物与所述二羰基化合物的聚合步骤包括使所述二胺化合物与所述二羰基化合物反应形成粘度为1000cps至10000cps的第一聚合物溶液；以及使第一聚合物溶液与额外量的所述二羰基化合物反应以形成粘度为200,000cps至350,000cps的第二聚合物溶液。8.根据权利要求6所述的聚酰胺基薄膜的制备方法，其中，在形成所述第一聚合物溶液的步骤中，使所述第一二羰基化合物和所述第二二羰基化合物依次与所述二胺化合物反应，并且在形成所述第二聚合物溶液的步骤中，所述第二二羰基化合物进一步反应。9.一种覆盖窗，所述覆盖窗包括聚酰胺基薄膜和功能层，其中所述聚酰胺基薄膜的耐光指数为0.660gpa-1
或更小，所述耐光指数由以下等式1表示：[等式1]耐光指数＝δyi/y等式1中，y为所述薄膜的模量，δyi为在60℃下对所述薄膜照射紫外线，停止紫外线照射，并在50℃喷水的耐光性测试前后的所述薄膜的黄指数(yi)变化率。10.一种显示装置，所述显示装置包括显示单元；以及设置在所述显示单元上的覆盖
窗，其中所述覆盖窗包括聚酰胺基薄膜和功能层，并且所述聚酰胺基薄膜具有0.660gpa-1
或更小的耐光指数，所述耐光指数由以下等式1表示：[等式1]耐光指数＝δyi/y等式1中，y为所述薄膜的模量，δyi为在60℃下对所述薄膜照射紫外线，停止紫外线照射，并在50℃喷水的耐光性测试前后的所述薄膜的黄指数(yi)变化率。
技术总结
本发明公开了一种聚酰胺基薄膜、制备聚酰胺基薄膜的方法、覆盖窗和包括该覆盖窗的显示装置。本发明提供了一种聚酰胺基薄膜，其包括聚酰胺基聚合物并且具有0.660GPa-1
