一种光学产品保护膜及其生产方法与流程
1.本发明涉及光学产品领域，具体涉及一种光学产品保护膜及其生产方法。
背景技术：
2.本部分的描述仅提供与本发明公开相关的背景信息，而不构成现有技术。
3.随着显示技术的高速发展，人们对显示屏的画面质感要求越来越高，反应到光学屏的材质和外观上，要求材质更耐磨，具备更高的透过率及更低的雾度，外观不能有任何异物点、划伤、指纹印等，这就要求光学屏，或屏幕组装中使用的玻璃，高透pet或pi膜(简称光学膜)在运输及质检过程中通过贴附一层保护膜保护起来。
4.由于现代工业的高度模块化，上下游分工明确，一块屏幕从原材料到最后组装完成需要由多个厂家参与，涉及多道工艺，且运输和处理过程中难以避免碰撞和刮擦，这些对光学材料表面的保护膜性能都有影响，如造成破损、在光学膜上留下刮痕或残胶等，所以常规的单层保护膜已逐渐不能满足整道制程中的运输、质检需求。
5.部分厂商会使用加厚或两层以上保护膜来解决此问题，但由于保护膜材本身加厚或是叠层都会导致光学上的散射、衍射等问题，通常光学透过率在93-94％，而光学材料的质检通常在仍然覆盖保护膜的条件下进行，故而要求光学材料连带保护膜的透光率在95％以上。这些光学损失会导致光学材料良率判断的误差，造成厂商损失，所以仍然无法彻底解决这个应用难点。
6.应该注意，上面对技术背景的介绍只是为了方便对本发明的技术方案进行清楚、完整的说明，并方便本领域技术人员的理解而阐述的。不能仅仅因为这些方案在本发明的背景技术部分进行了阐述而认为上述技术方案为本领域技术人员所公知。
技术实现要素：
7.本发明要解决的技术问题是提供一种光学产品保护膜及其生产方法。
8.为了解决上述技术问题，本发明提供了一种光学产品保护膜，其包括，pet基层、涂布在pet基层表面的ar涂层及涂布在pet基层另一表面的光学级胶水层。
9.优选地，所述的pet基层为厚度50um的toray u48，所述的ar涂层为氟硅改性树脂，所述的光学级胶水层为丙烯酸体系胶水，运动黏度为30～50cps，干胶厚度为15～25um。
10.本技术还提供一种光学产品保护膜的生产方法，在pet基层的表面涂布ar涂层，在pet基层的另一表面涂布光学级胶水层，所述的ar涂层为氟硅改性树脂，所述的光学级胶水层为丙烯酸体系胶水，运动黏度为30～50cps，干胶厚度为15～25um。
11.优选地，所述的ar涂层的生产方法包括，配置teos和无水乙醇摩尔比为1:10-1:12的溶液，加入离子水与氨水，使溶液的ph值调节至10，室温下搅拌2-6小时，随后将溶液放置入20-40℃水浴中，陈化4-8天，制成镀膜母液，将膜母液涂布于pet基层的表面。
12.优选地，所述的ar涂层的生产方法还包括，膜母液涂布之前，将pet基层进行去离子水超声清洁，无水乙醇超声清洁，第二次去离子水超声清洁后烘干。
13.优选地，在pet基层表面涂布膜母液的涂布方式为微凹涂布，使用200目微凹辊，固化方式为uv辐射，辐射能量为150～300mj/c
㎡
，线速度15～30m/min。
14.优选地，所述的ar涂层的生产方法还包括，将膜母液涂布于pet基层的表面后，形成初始ar涂层，使用氟硅氧烷、无水乙醇及去离子水按3:50:100比例依次混合，得到强化层母液，将强化层母液涂布在初始ar涂层的表面，得到pet光学膜基材。
15.优选地，所述光学级胶水层的涂布方式为刮刀或狭缝挤出，固化方式为热辐射固化，温度90～110℃，线速度15～30m/min，熟化条件：40℃，72h。
16.借由以上的技术方案，本发明的有益效果如下：
17.本发明的一种光学产品保护膜及其生产方法，该保护膜即使是双层叠加后，总体也可拥有95％以上的可见光透过率，用以代替原有常规保护膜的双层膜叠加的方案，同时对其质检工序无影响，整体改进光学膜运输中碰到的各类问题。
具体实施方式
18.下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
19.所述光学pet基层为50um toray u48；所述ar涂层为氟硅改性树脂，其制备的基础原理为使用醇盐水解型溶胶-凝胶法，利用正硅酸乙酯(teos)在酸性环境下进行水解，生成大量硅羟基(si-oh)，而在硅羟基之间、硅羟基与teos本体及含氟之间又发生缩聚反应。
20.具体方法为：配置teos/无水乙醇摩尔比为1:10-1：12的溶液，完成后混合搅拌10分钟，快速加入去与teos摩尔比为1:4-1:5的去离子水，并逐渐滴加氨水，使其ph值调节至10(也可事先将去离子水与氨水计算ph后调配)，室温下搅拌2-6小时，随后放置入30℃水浴中，陈化5天，制成镀膜母液。
21.随后将光学级pet依次进行去离子水超声清洁，无水乙醇超声清洁，第二次去离子水超声清洁各15分钟，之后60℃烘干30分钟以上。
22.随后在光学级pet表面使用进行母液镀层，其涂布方式为微凹涂布，选用200目微凹辊，固化方式为uv辐射，能量150～300mj/c
㎡
，优选为200mj/c
㎡
，线速度15～30m/min，优选为20m/min。
23.得到带有初始ar镀层的pet光学膜，随后使用氟硅氧烷(例：赢创dynasylan f8261十三氟辛基三乙氧基硅烷)，无水乙醇及去离子水按3：50:100比例依次混合，室温下搅拌30分钟，得到表面硬度高且疏水的强化层母液，再次使用同种涂布方法在已有初始镀层的pet光学膜表面进行处理。由此，可得具有低反射特性的pet光学膜基材。
24.随后使用另一种涂布方式在pet基材上涂布光学级胶水，所述光学保护膜胶水为丙烯酸体系，运动黏度30～50cps，干胶厚度为15～25um，优选为20um，纯胶膜，涂布方式为刮刀或狭缝挤出，优选为狭缝挤出，固化方式为热辐射固化，温度90～110℃，优选为100℃，线速度15～30m/min，优选为20m/min，熟化条件：40℃，72h。
25.通过以上方法，可获得表面涂布有带氟硅加强层的特殊ar镀层，背面涂布有光学级丙烯酸胶水的保护膜产品。本产品首先具有优秀的光学透过率，经对比，带有此特殊ar涂
层的保护膜产品，其透光率具有一定的提高：
26.样品透光率常规光学级pet保护膜90-91％单sio2镀层pet保护膜91-93％sio2加氟硅强化双镀层pet保护膜95-97％两份贴合常规光学级pet保护膜83-87％两份贴合双镀层pet保护膜95-95.5％
27.由此，可证明此带ar镀层保护膜双层贴合后，依然具有超过常规的91％透光率，实际可达95％以上的光学透光率，好于常规的单层光学保护膜的透光率，满足各类光学元件保护的基本要求，且可以带来更好的表面保护效果，是一个针对透光率和保护效果无法两全的痛点的有效解决办法。
28.以上所述实施例仅是为充分说明本发明而所举的较佳的实施例，本发明的保护范围不限于此。本技术领域的技术人员在本发明基础上所作的等同替代或变换，均在本发明的保护范围之内。本发明的保护范围以权利要求书为准。
技术特征：
1.一种光学产品保护膜，其特征在于，其包括，pet基层、涂布在pet基层表面的ar涂层及涂布在pet基层另一表面的光学级胶水层。2.根据权利要求1所述的光学产品保护膜，其特征在于，所述的pet基层为厚度50um的toray u48，所述的ar涂层为氟硅改性树脂，所述的光学级胶水层为丙烯酸体系胶水，运动黏度为30～50cps，干胶厚度为15～25um。3.一种权利要求1所述的光学产品保护膜的生产方法，其特征在于，在pet基层的表面涂布ar涂层，在pet基层的另一表面涂布光学级胶水层，所述的ar涂层为氟硅改性树脂，所述的光学级胶水层为丙烯酸体系胶水，运动黏度为30～50cps，干胶厚度为15～25um。4.根据权利要求3所述的光学产品保护膜的生产方法，其特征在于，所述的ar涂层的生产方法包括，配置teos和无水乙醇摩尔比为1:10-1:12的溶液，加入离子水与氨水，使溶液的ph值调节至10，室温下搅拌2-6小时，随后将溶液放置入20-40℃水浴中，陈化4-8天，制成镀膜母液，将膜母液涂布于pet基层的表面。5.根据权利要求4所述的光学产品保护膜的生产方法，其特征在于，所述的ar涂层的生产方法还包括，膜母液涂布之前，将pet基层进行去离子水超声清洁，无水乙醇超声清洁，第二次去离子水超声清洁后烘干。6.根据权利要求5所述的光学产品保护膜的生产方法，其特征在于，在pet基层表面涂布膜母液的涂布方式为微凹涂布，使用200目微凹辊，固化方式为uv辐射，辐射能量为150～300mj/c
㎡
，线速度15～30m/min。7.根据权利要求6所述的光学产品保护膜的生产方法，其特征在于，所述的ar涂层的生产方法还包括，将膜母液涂布于pet基层的表面后，形成初始ar涂层，使用氟硅氧烷、无水乙醇及去离子水按3:50:100比例依次混合，得到强化层母液，将强化层母液涂布在初始ar涂层的表面，得到pet光学膜基材。8.根据权利要求6所述的光学产品保护膜的生产方法，其特征在于，所述光学级胶水层的涂布方式为刮刀或狭缝挤出，固化方式为热辐射固化，温度90～110℃，线速度15～30m/min，熟化条件：40℃，72h。
技术总结
本发明提供了一种光学产品保护膜及其生产方法，其包括，PET基层、涂布在PET基层表面的AR涂层及涂布在PET基层另一表面的光学级胶水层。本发明的一种光学产品保护膜及其生产方法，该保护膜即使是双层叠加后，总体也可拥有95％以上的可见光透过率，用以代替原有常规保护膜的双层膜叠加的方案，同时对其质检工序无影响，整体改进光学膜运输中碰到的各类问题。整体改进光学膜运输中碰到的各类问题。
