本文作者:kaifamei

一种蒸镀罩及蒸镀设备的制作方法

更新时间:2025-12-26 10:46:37 0条评论

一种蒸镀罩及蒸镀设备的制作方法



1.本实用新型涉及光电显示技术领域,特别是涉及一种蒸镀罩及蒸镀设备。


背景技术:



2.目前,消费市场中,电子设备的更新换代愈来愈快,随之而来的是显示屏幕需求的巨大缺口,屏幕根据显示方式、材料等方面主要分为oled屏和lcd屏。在oled屏蒸镀生产工艺中,一个蒸镀腔室内会设计多个蒸发源,每个蒸发源内可分别填充不同的材料,根据实际需要进行升温蒸镀,会存在多个蒸发源之间的污染问题。


技术实现要素:



3.本实用新型主要解决的技术问题是提供一种蒸镀罩及蒸镀设备,能够保护蒸发源之间不会相互影响、污染。
4.为解决上述技术问题,本实用新型采用的一个技术方案是:提供一种蒸镀罩,蒸镀罩包括遮挡板,遮挡板包括至少一个开口区域,开口区域允许来自蒸发源的蒸发分子穿过遮挡板;其中,遮挡板包括相对的第一面和第二面,第一面为朝向蒸发源的一面,遮挡板的第一面上设置有间隔槽,间隔槽用于匹配蒸发源的阻隔结构,以收容阻隔结构。通过在蒸镀罩上设置间隔槽,能够收容蒸发源的阻隔结构,使蒸镀罩与蒸发源匹配卡合,能够严密分隔相邻蒸发单元,使蒸发单元间不存在缝隙,进而不会相互影响、污染。
5.在一实施方式中,遮挡板的第一面上设置有间隔板组,间隔板组包括两个间隔板,两个间隔板之间具有间隙,以构成间隔槽。
6.在一实施方式中,蒸镀罩还包括支撑件,支撑件与遮挡板连接,支撑件相对蒸发源活动设置,且能够带动遮挡板靠近或远离蒸发源。通过设置支撑件带动遮挡板靠近或远离蒸发源,能够实现在工作时蒸镀罩与蒸发源匹配卡合,而在设备维护时,两者分离,不会相互干涉。
7.在一实施方式中,支撑件为伸缩杆,伸缩杆能够被驱动,以带动遮挡板靠近或远离蒸发源。
8.在一实施方式中,伸缩杆的伸缩范围为0~10cm。
9.在一实施方式中,蒸镀罩还包括旋转轴,旋转轴与支撑件连接,用于带动支撑件旋转,以带动遮挡板旋转。通过设置旋转轴,能够实现遮挡板的旋转,进而实现遮挡板开口区域的旋转移位,以对应不同的蒸发单元,实现蒸发单元的转换。
10.在一实施方式中,蒸发源包括相对的第一面和第二面,遮挡板朝向蒸发源的第一面设置;旋转轴设置于蒸发源的第二面,支撑件能够相对旋转轴伸缩运动,并伸出至蒸发源的第一面。通过这种设置,不会影响蒸发源正面结构的设置,如不会与现有其他保护罩结构相冲突,能够同时安装本技术的蒸镀罩和现有的保护罩。
11.在一实施方式中,遮挡板包括至少两个开口区域,两个开口区域间隔设置,相邻两个开口区域之间的间距大于蒸发源的相邻两个蒸发单元之间的间距。通过设置两个开口区
域,能够在进行当前蒸镀工作的同时,为下一使用的蒸镀单元做准备,监测蒸镀速率等。设置两个开口区域距离较远,能够保证两者之后不会相互影响,污染。
12.为解决上述技术问题,本实用新型采用的另一个技术方案是:提供一种蒸镀设备,蒸镀设备包括蒸发源和蒸镀罩,蒸发源包括多个蒸发单元,相邻两个蒸发单元之间设置有阻隔结构;蒸镀罩包括遮挡板,遮挡板包括至少一个开口区域,开口区域允许来自蒸发源的蒸发分子穿过遮挡板;其中,遮挡板包括相对的第一面和第二面,第一面为朝向蒸发源的一面,遮挡板的第一面上设置有间隔槽,间隔槽用于匹配蒸发源的阻隔结构,以收容阻隔结构。
13.在一实施方式中,蒸镀设备还包括保护罩,保护罩设置于蒸镀罩远离蒸发源的一侧,保护罩包括开口区域,以允许来自蒸发源的蒸发分子穿过保护罩,保护罩的开口区域的面积大于遮挡板的开口区域的面积。
14.本实用新型的有益效果是:区别于现有技术的情况,本实用新型所提供的蒸镀罩设置有间隔槽,通过在蒸镀罩上设置间隔槽,能够收容蒸发源的阻隔结构,使蒸镀罩与蒸发源匹配卡合,能够严密分隔相邻蒸发单元,使蒸发单元间不存在缝隙,进而不会相互影响、污染。
附图说明
15.图1是本技术实施方式中多点式蒸发源的俯视结构示意图;
16.图2是本技术实施方式中多点式蒸发源局部结构的主视图;
17.图3是本技术实施方式中装配有保护罩的蒸镀设备的结构示意图;
18.图4是本技术实施方式中保护罩的俯视结构示意图;
19.图5是本技术实施方式中装配有保护罩和蒸镀罩的蒸镀设备的爆炸结构示意图;
20.图6是本技术实施方式中装配有保护罩和蒸镀罩的蒸镀设备的结构示意图;
21.图7是本技术实施方式中蒸镀罩的遮挡板的俯视结构示意图;
22.图8是本技术实施方式中蒸发罩的遮挡板的仰视结构示意图;
23.图9是本技术实施方式中装配有蒸镀罩的蒸镀设备的结构示意图;
24.图10是本技术实施方式中装配有蒸镀罩的蒸镀设备的爆炸结构示意图。
具体实施方式
25.为使本技术的目的、技术方案及效果更加清楚、明确,以下参照附图并举实施例对本技术进一步详细说明。
26.请结合参阅图1和图2,图1是本技术实施方式中多点式蒸发源的俯视结构示意图,图2是本技术实施方式中多点式蒸发源局部区域的主视结构示意图。该实施方式中,提供一种蒸镀设备,该蒸镀设备的蒸镀腔室内设置有蒸发源,一般的在oled屏蒸镀生产工艺中,部分材料对蒸发温度的需求相对较高,一般的蒸发源(线源或面源)难以实现,因此需要耐高温的点蒸发源才能满足生产。量产蒸镀设备的点蒸发源由于加料容量有限,通常一个蒸镀腔室内会设计为多点式蒸发源,每个多点式蒸发源内具有按一定顺序排列的多个蒸发cell(也可称作蒸发单元),多个蒸发单元可分别填充不同的材料,根据实际需要进行升温蒸镀。本技术所提供的蒸镀设备可用于oled屏蒸镀生产工艺中。即该蒸镀设备的蒸发源为多点式
蒸发源,蒸发源10内具有按一定顺序排列的多个蒸发单元11,如图1所示,该蒸发源10内设置有七个蒸发单元11。具体地,蒸发源10包括多个阻隔结构12,阻隔结构12设置于多个蒸发单元11之间,以区分隔离相邻的蒸发单元11。阻隔结构12可以是阻隔挡板,如阻隔结构12可以是金属挡板。
27.多个蒸发单元11可分别填充不同的蒸发材料,根据实际需要进行升温蒸镀。发明人经过长期研究发现,在使用过程中,一般是只使用其中一个蒸发单元11,为保护其他蒸发单元11不受影响,一般会在蒸发源10上方设置保护罩。而现有保护罩一般仅考虑了一个蒸镀腔室内多个多点式蒸发源使用时的相互污染问题,未考虑一个多点式蒸发源内多个蒸发单元11之间的污染问题,使得多点式蒸发源在使用过程中,其内的多个蒸发单元11会被污染,导致蒸发单元11损坏,无法正常使用。
28.请结合参阅图3和图4,图3是本技术实施方式中装配有保护罩的蒸镀设备的结构示意图,图4是本技术实施方式中保护罩的俯视结构示意图。该实施方式中,蒸镀设备包括一保护罩30,保护罩30设置在蒸发源10上方,用于保护至少部分蒸发单元11不被污染。如图3所示,保护罩30可以架设在阻隔结构12上,以覆盖蒸发单元11。
29.如图4所示,保护罩30包括至少一个开口区域31,保护罩30的开口区域31能够允许蒸发分子穿过保护罩30。如图3所示,当将保护罩30安装在蒸发源10上方时,保护罩30的开口区域31所对应的蒸发单元11完全裸露,能够允许蒸发分子通过,而其他区域的蒸发单元11则被覆盖保护起来了。
30.其中,一般地,保护罩30悬挂于蒸发源10上方,且蒸发单元11的表面与保护罩30的底面有一定的距离,使得蒸发单元11与保护罩30之间具有一定的空间。蒸发分子离开蒸发单元11后,若保护罩30的开口不够大,部分蒸发分子会被限制在蒸发单元11与保护罩30之间的空间内,影响蒸镀效果。为了保证足够的蒸镀角度,使蒸发分子充分的蒸镀在产品上,保护罩30应具有足够的开口角度,因此,保护罩30的开口区域31的面积较大,一般是远大于蒸发单元11的面积,甚至会导致相邻的蒸发单元11一起裸露。如图3所示,在暴露需使用的蒸发单元11-1时,蒸发单元11-2同时也被暴露。这种情况下,使得相邻近的蒸发单元11间缺少相关保护措施,长时间使用过程中,使得正在使用的蒸发单元11-1会将蒸发材料蒸镀到相邻的蒸发单元11-2上,导致蒸发源10内相邻的蒸发单元11存在污染及损坏,最终蒸发源10无法满足正常生产的风险。
31.请结合参阅图5和图6,图5是本技术实施方式中装配有保护罩和蒸镀罩的蒸镀设备的爆炸结构示意图,图6是本技术实施方式中装配有保护罩和蒸镀罩的蒸镀设备的结构示意图。该实施方式中,蒸镀设备还包括蒸镀罩,即蒸镀设备包括蒸发源10、蒸镀罩20和保护罩30,蒸镀罩20设置于蒸发源10的上方,保护罩30设置于蒸镀罩20远离蒸发源10的一侧,即蒸镀罩20设置于蒸发源10与保护罩30之间,蒸镀罩20能够保护相邻的蒸发单元11不被污染。可以理解的是,本技术中的蒸发源10为多点式蒸发源。
32.请结合参阅图7-图9,图7是本技术实施方式中蒸镀罩的遮挡板的俯视结构示意图,图8是本技术实施方式中蒸镀罩的遮挡板的仰视结构示意图,图9是本技术实施方式中装配有蒸镀罩的蒸镀设备的结构示意图。该实施方式中,蒸镀罩20包括遮挡板21,遮挡板21包括至少一个开口区域211,遮挡板21的开口区域211允许蒸发分子穿过遮挡板21。遮挡板21的材质包括金属,优选为耐高温且稳定的金属材质,如钛。遮挡板21的形状可以是圆形,
也可以是多边形,以能够匹配蒸发源10的形状为宜,在此不做限定。
33.具体地,遮挡板21包括相对的第一面和第二面,第一面为朝向蒸发源10的一面,第一面上设置有间隔槽212,间隔槽212用于匹配蒸发源10的阻隔结构12,以收容阻隔结构12,使遮挡板21的间隔槽212与蒸发源10的阻隔结构12卡合,利用卡合结构,将蒸发源10分立成一个个独立封闭的空间,每个空间内具有一个蒸发单元11,能够严密分隔相邻蒸发单元11,使蒸发单元11间相互独立,进而不会相互影响、污染。同时蒸发分子在蒸出的时候即可通过遮挡板21的开口区域211,进而使蒸发分子能够完全通过遮挡板21的开口区域211,且蒸镀角度不受限制,如图9所示,遮挡板21可以完全盖合在蒸发源10上,蒸发单元11-1相邻两侧的蒸发单元11-2均可被覆盖保护,不受污染。
34.进一步地,在安装蒸镀罩20时,使蒸镀罩20的开口区域211与保护罩30的开口区域31相对应。其中,遮挡板21的开口区域211的开口面积小于保护罩30的开口区域31的开口面积。遮挡板21能够遮挡被保护罩30暴露的相邻的蒸发单元11,仅暴露一个需使用的蒸发单元11。如图6所示,蒸发单元11-1和蒸发单元11-2均暴露在保护罩30的开口区域31内,但是蒸发单元11-2会被蒸镀罩20的遮挡板21遮挡,仅暴露蒸发单元11-1,实现对相邻蒸发单元11的保护。
35.其中,遮挡板21的开口区域211设置在遮挡板21的板体上,开口区域211可以为扇形结构,或圆形结构,或其他规则形状结构,例如方形等。当然的,遮挡板21的开口区域211也可为不规则形状,具体以实际的应用为准。当遮挡板21的开口区域211为多个时,多个开口区域211相间隔的分布在遮挡板21的本体上,且两个开口区域211的间隔距离大于两个蒸发单元11间的距离,即相邻两个开口区域211不会同时对应相邻两个蒸发单元11,以实现对相邻蒸发单元11的保护。如图7所示,两个开口区域211至少间隔了两个蒸发单元11。
36.一般地,保护罩30包括两个开口区域31,遮挡板21包括两个开口区域211,分别对应保护罩30的开口区域31;一个开口区域211用于当前蒸镀反应;另一开口区域211用于对待使用的蒸发单元11进行蒸镀速率测试。遮挡板21的两个开口区域211需相互远离,以免相互影响。
37.请继续参阅图8,遮挡板21的第一面上设置有间隔板组,间隔板组包括至少两个间隔板2121,两个间隔板2121之间具有间隙2122,以形成间隔槽212,即遮挡板21的间隔槽212可以由两个间隔板2121围设形成。当将蒸镀罩20罩设在蒸发源10上时,间隔槽212与阻隔结构12相配合,以收容阻隔结构12,使蒸镀罩20与蒸发源10卡合。因此,间隔槽212的设置个数,以及间隔槽212的间隙大小可以根据蒸发源10的结构设置,在此不做限制。
38.请参阅图10,图10是本技术实施方式中装配有蒸镀罩的蒸镀设备的爆炸结构示意图。该实施方式中,蒸镀罩20还包括支撑件22,即蒸镀罩20包括遮挡板21和支撑件22。支撑件22与遮挡板21连接,如可通过螺栓将遮挡板21固定在支撑件22上,支撑件22相对蒸发源10活动设置,且能够带动遮挡板21靠近或远离蒸发源10。支撑件22可以为金属支撑件。
39.具体地,因为遮挡板21设置有间隔槽212,当遮挡板21与蒸发源10配合时,遮挡板21会完全卡合在蒸发源10上,无法实现蒸发单元11的转换。具体地,当需要转换需使用的蒸发单元11时,例如蒸发单元11-1蒸镀完成,需换成蒸发单元11-2时,需旋转遮挡板21或旋转蒸发源10,以使遮挡板21的开口区域211对应蒸发单元11-2,以允许蒸发单元11-2的蒸发分子通过遮挡板21。但是,因为间隔槽212的存在,当遮挡板21与蒸发源10卡合时,无法实现蒸
发单元11的转换。通过设置支撑件22能够带动遮挡板21靠近或远离蒸发源10,使得在进行蒸镀工作时,控制遮挡板21靠近蒸发源10,以保护相邻蒸发单元11;而在需要转换蒸发单元11时,控制遮挡板21远离蒸发源10,使得遮挡板21上的结构不与蒸发源10的结构干涉,进而实现蒸发单元11的转换。
40.进一步地,蒸镀罩20还包括旋转轴(图未示),旋转轴与支撑件22连接,能够带动支撑件22进行360
°
的旋转运动,进而带动遮挡板21旋转,实现蒸发单元11的转换。
41.具体地,蒸发源10包括相对的第一面和第二面,遮挡板21朝向蒸发源10的第一面设置;旋转轴设置于蒸发源10的第二面,支撑件22能够相对旋转轴伸缩运动,并伸出至蒸发源10的第一面。通过将旋转轴设置在蒸发源10的第二面,不会影响蒸发源10正面的结构,且与保护罩30无设计冲突,可正常安装使用。
42.进一步地,蒸镀设备还包括驱动件,能够驱动旋转轴旋转,同时能够驱动支撑件22相对蒸发源10运动。驱动件可以是驱动马达。
43.在一实施方式中,支撑件22为伸缩杆,伸缩杆能够被驱动,以带动遮挡板21靠近或远离蒸发源10。所述伸缩杆的活动范围为0~10cm。
44.在一实施方式中,保护罩30与蒸发源10之间的间距大于伸缩杆的伸缩活动范围,以使在蒸镀罩20相对蒸发源10升降和旋转时不会与保护罩30干涉,进而不影响保护罩30的设置。
45.本技术所提供的蒸镀设备在安装后,需要按预定流程进行位置调整和使用。在一实施方式中,蒸发源10为圆形,多个蒸发单元11围绕蒸发源10的圆心设置,在蒸发源10的圆心开孔,使得伸缩杆从蒸发源10下方穿过至蒸发源10上方,将遮挡板21固定在伸缩杆顶端,在遮挡板21上方设置保护罩30。安装后,驱动伸缩杆上升,此时可对蒸发源10进行维护、保养和处理,如放置蒸发材料,维护蒸发单元等;进行蒸镀工作时,驱动伸缩杆下降,带动蒸镀罩20向下,将蒸发源10内正在使用的蒸发单元11和未使用的蒸发单元11严密分隔开。此时正在使用的蒸发单元11无法将材料蒸镀到相邻蒸发单元11上,实现了蒸发单元11的保护作用。蒸镀完成需要转换使用其他蒸发单元11时,驱动伸缩杆上升,带动蒸镀罩20向上,直到蒸镀罩20的结构不与蒸发源10的结构相干涉,驱动旋转轴,使伸缩杆旋转,进而带动遮挡板21旋转,直至遮挡板21的开口区域211与待使用蒸发单元11对应,完成转源。
46.以上方案,本技术所提出的方案,在现有的蒸发源保护罩下部,蒸发单元上部增加了一种可伸缩、可旋转和可控制的保护装置(蒸镀罩),可有效和方便地避免蒸发源内的蒸发单元在使用过程中污染相邻蒸发单元的问题,从而直接提高了蒸发源的使用寿命和使用要求。
47.以上所述仅为本技术的实施方式,并非因此限制本技术的专利范围,凡是利用本技术说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

技术特征:


1.一种蒸镀罩,其特征在于,包括:遮挡板,包括至少一个开口区域,所述开口区域允许来自蒸发源的蒸发分子穿过所述遮挡板;其中,所述遮挡板包括相对的第一面和第二面,所述第一面为朝向所述蒸发源的一面,所述遮挡板的第一面上设置有间隔槽,所述间隔槽用于匹配所述蒸发源的阻隔结构,以收容所述阻隔结构。2.根据权利要求1所述的蒸镀罩,其特征在于,所述遮挡板的第一面上设置有间隔板组,所述间隔板组包括两个间隔板,两个所述间隔板之间具有间隙,以构成所述间隔槽。3.根据权利要求1所述的蒸镀罩,其特征在于,所述蒸镀罩还包括:支撑件,与所述遮挡板连接,所述支撑件相对所述蒸发源活动设置,且能够带动所述遮挡板靠近或远离所述蒸发源。4.根据权利要求3所述的蒸镀罩,其特征在于,所述支撑件为伸缩杆,所述伸缩杆能够被驱动,以带动所述遮挡板靠近或远离所述蒸发源。5.根据权利要求4所述的蒸镀罩,其特征在于,所述伸缩杆的伸缩范围为0~10cm。6.根据权利要求3所述的蒸镀罩,其特征在于,所述蒸镀罩还包括:旋转轴,与所述支撑件连接,用于带动所述支撑件旋转,以带动所述遮挡板旋转。7.根据权利要求6所述的蒸镀罩,其特征在于,所述蒸发源包括相对的第一面和第二面,所述遮挡板朝向所述蒸发源的第一面设置;所述旋转轴设置于所述蒸发源的第二面,所述支撑件能够相对所述旋转轴伸缩运动,并伸出至所述蒸发源的第一面。8.根据权利要求1所述的蒸镀罩,其特征在于,所述遮挡板包括至少两个开口区域,至少两个所述开口区域间隔设置,相邻两个所述开口区域之间的间距大于所述蒸发源的相邻两个蒸发单元之间的间距。9.一种蒸镀设备,其特征在于,包括:蒸发源,包括多个蒸发单元,相邻两个所述蒸发单元之间设置有阻隔结构;蒸镀罩,包括遮挡板,所述遮挡板包括至少一个开口区域,所述开口区域允许来自所述蒸发源的蒸发分子穿过所述遮挡板;其中,所述遮挡板包括相对的第一面和第二面,所述第一面为朝向所述蒸发源的一面,所述遮挡板的第一面上设置有间隔槽,所述间隔槽用于匹配所述蒸发源的所述阻隔结构,以收容所述阻隔结构。10.根据权利要求9所述的蒸镀设备,其特征在于,所述蒸镀设备还包括:保护罩,设置于所述蒸镀罩远离所述蒸发源的一侧,所述保护罩包括开口区域,以允许来自所述蒸发源的蒸发分子穿过所述保护罩,所述保护罩的开口区域的面积大于所述遮挡板的开口区域的面积。

技术总结


本实用新型公开了一种蒸镀罩及蒸镀设备,蒸镀罩包括遮挡板,遮挡板包括至少一个开口区域,开口区域允许来自蒸发源的蒸发分子穿过遮挡板;其中,遮挡板包括相对的第一面和第二面,第一面为朝向蒸发源的一面,遮挡板的第一面上设置有间隔槽,间隔槽用于匹配蒸发源的阻隔结构,以收容阻隔结构。通过上述方式,本实用新型能够保护多点式蒸发源中相邻的蒸发单元间不会相互影响、污染。污染。污染。


技术研发人员:

刘全宝 毋炳辉 彭兆基

受保护的技术使用者:

合肥维信诺科技有限公司

技术研发日:

2022.06.23

技术公布日:

2022/11/22


文章投稿或转载声明

本文链接:http://www.wtabcd.cn/zhuanli/patent-1-12876-0.html

来源:专利查询检索下载-实用文体写作网版权所有,转载请保留出处。本站文章发布于 2022-12-04 02:57:04

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